Teknologi CVD adalah berdasarkan tindak balas kimia. Tindak balas di mana bahan tindak balas berada dalam keadaan gas dan salah satu produk berada dalam keadaan pepejal biasanya dirujuk sebagai tindak balas CVD, oleh itu sistem tindak balas kimianya mesti memenuhi tiga syarat berikut.
(1) Pada suhu pemendapan, bahan tindak balas mesti mempunyai tekanan wap yang cukup tinggi. Jika semua bahan tindak balas adalah gas pada suhu bilik, peranti pemendapan agak mudah, jika bahan tindak balas meruap pada suhu bilik adalah sangat kecil, ia perlu dipanaskan untuk menjadikannya meruap, dan kadangkala perlu menggunakan gas pembawa untuk membawanya ke ruang tindak balas.
(2) Daripada hasil tindak balas, semua bahan mestilah dalam keadaan gas kecuali mendapan yang dikehendaki, iaitu dalam keadaan pepejal.
(3) Tekanan wap filem yang termendap hendaklah cukup rendah untuk memastikan filem yang termendap itu melekat kuat pada substrat yang mempunyai suhu pemendapan tertentu semasa tindak balas pemendapan. Tekanan wap bahan substrat pada suhu pemendapan juga mestilah cukup rendah.
Bahan tindak balas pemendapan dibahagikan kepada tiga keadaan utama berikut.
(1) Keadaan gas. Bahan sumber yang berbentuk gas pada suhu bilik, seperti metana, karbon dioksida, ammonia, klorin, dan sebagainya, yang paling kondusif untuk pemendapan wap kimia, dan yang mana kadar alirannya mudah dikawal.
(2) Cecair. Sesetengah bahan tindak balas pada suhu bilik atau suhu yang sedikit lebih tinggi, terdapat tekanan wap yang tinggi, seperti TiCI4, SiCl4, CH3SiCl3, dan sebagainya, boleh digunakan untuk membawa aliran gas (seperti H2, N2, Ar) melalui permukaan cecair atau cecair di dalam gelembung, dan kemudian membawa wap tepu bahan tersebut ke dalam studio.
(3) Keadaan pepejal. Sekiranya tiada sumber gas atau cecair yang sesuai, hanya bahan suapan keadaan pepejal sahaja yang boleh digunakan. Sesetengah unsur atau sebatiannya dalam beratus-ratus darjah mempunyai tekanan wap yang besar, seperti TaCl5, Nbcl5, ZrCl4, dan sebagainya, boleh dibawa ke studio menggunakan gas pembawa yang dimendapkan ke dalam lapisan filem.
Jenis situasi yang lebih biasa berlaku melalui tindak balas gas-pepejal atau gas-cecair tertentu dan bahan sumber, pembentukan komponen gas yang sesuai untuk penghantaran studio. Contohnya, gas HCl dan logam Ga bertindak balas untuk membentuk komponen gas GaCl, yang diangkut ke studio dalam bentuk GaCl.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 16 Nov-2023