(४) लक्ष्यित साहित्य. लक्ष्यित साहित्य हे स्पटरिंग कोटिंगची गुरुकिल्ली आहे, सर्वसाधारणपणे, जोपर्यंत लक्ष्यित साहित्य आवश्यकता पूर्ण करते, आणि फिल्म लेयर मिळविण्यासाठी प्रक्रियेच्या पॅरामीटर्सचे कठोर नियंत्रण आवश्यक असू शकते. लक्ष्यित साहित्यातील अशुद्धता आणि पृष्ठभाग ऑक्साईड आणि इतर अशुद्ध पदार्थ हे फिल्म दूषित होण्याचे एक महत्त्वाचे स्त्रोत आहेत, म्हणून उच्च शुद्धता थर मिळविण्यासाठी, उच्च शुद्धता लक्ष्य सामग्रीच्या वापराव्यतिरिक्त, प्रत्येक स्पटरिंगमध्ये लक्ष्याची पृष्ठभाग स्वच्छ करण्यासाठी प्री-स्पटरिंगचे पहिले लक्ष्य असावे, ऑक्साईड लेयरची लक्ष्यित पृष्ठभाग काढून टाकण्यासाठी.
(५) पार्श्वभूमी व्हॅक्यूम. पार्श्वभूमी व्हॅक्यूमची पातळी थेट प्रणालीतील अवशिष्ट वायूचे प्रमाण प्रतिबिंबित करते आणि अवशिष्ट वायू देखील फिल्म लेयरच्या दूषिततेचा एक महत्त्वाचा स्रोत आहे, म्हणून पार्श्वभूमी व्हॅक्यूम शक्य तितका सुधारला पाहिजे. आणखी एक समस्या प्रदूषणावर आहे ती म्हणजे तेल प्रसार पंप तेलाकडे परत जाणे, ज्यामुळे पडद्यामध्ये कार्बन डोपिंग होते, पडद्याच्या अधिक कठोर आवश्यकतांसाठी योग्य उपाययोजना कराव्यात किंवा तेल-मुक्त उच्च-व्हॅक्यूम पंपिंग सिस्टमचा वापर करावा.
(६) थुंकणारा हवेचा दाब. कार्यरत हवेचा दाब पडद्याच्या जमा होण्याच्या दरावर थेट परिणाम करतो.
याव्यतिरिक्त, विद्युत क्षेत्र, वातावरण, लक्ष्य सामग्री, सब्सट्रेट तापमान आणि भौमितिक रचनेतील वेगवेगळ्या स्पटरिंग उपकरणांमुळे, पडद्यातील परस्परसंवादाच्या पॅरामीटर्सची आवश्यकता निर्माण करण्यासाठी, प्रक्रियेच्या पॅरामीटर्सवर प्रयोग करणे आवश्यक आहे, ज्यामधून सर्वोत्तम प्रक्रिया परिस्थिती निर्माण होते.
- हा लेख प्रकाशित केला आहेव्हॅक्यूम कोटिंग मशीन निर्माताग्वांगडोंग झेन्हुआ
पोस्ट वेळ: जानेवारी-०५-२०२४