1) ເປົ້າໝາຍຮູບຊົງກະບອກມີອັດຕາການນຳໃຊ້ສູງກວ່າເປົ້າໝາຍຕາມແຜນ. ໃນຂະບວນການເຄືອບ, ບໍ່ວ່າຈະເປັນປະເພດແມ່ເຫຼັກ rotary ຫຼືທໍ່ rotary ປະເພດ sputtering cylindrical ເປົ້າຫມາຍ, ທຸກພາກສ່ວນຂອງຫນ້າດິນຂອງທໍ່ເປົ້າຫມາຍຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງຜ່ານພື້ນທີ່ sputtering ທີ່ສ້າງຂຶ້ນຢູ່ທາງຫນ້າຂອງແມ່ເຫຼັກຖາວອນເພື່ອຮັບ cathode sputtering, ແລະເປົ້າຫມາຍສາມາດ sputtered ເປັນເອກະພາບ, ແລະອັດຕາການນໍາໃຊ້ເປົ້າຫມາຍແມ່ນສູງ. ອັດຕາການນໍາໃຊ້ວັດສະດຸເປົ້າຫມາຍແມ່ນປະມານ 80% ~ 90%.
2) ເປົ້າໝາຍທີ່ເປັນຮູບທໍ່ກົມຈະບໍ່ງ່າຍທີ່ຈະຜະລິດ “ສານພິດເປົ້າໝາຍ”. ໃນລະຫວ່າງການຂະບວນການເຄືອບ, ດ້ານຂອງທໍ່ເປົ້າຫມາຍແມ່ນສະເຫມີ sputtered ແລະ etched ໂດຍ ions, ແລະມັນບໍ່ງ່າຍທີ່ຈະສະສົມ oxides ຫນາແລະແຜ່ນ insulating ອື່ນໆໃນດ້ານ, ແລະມັນບໍ່ງ່າຍທີ່ຈະຜະລິດ "ສານພິດເປົ້າຫມາຍ".
3) ໂຄງສ້າງຂອງທໍ່ເປົ້າຫມາຍ rotary ປະເພດ cylindrical sputtering ເປົ້າຫມາຍແມ່ນງ່າຍດາຍແລະງ່າຍທີ່ຈະຕິດຕັ້ງ.
4) ອຸປະກອນການທໍ່ເປົ້າຫມາຍເປັນຮູບທໍ່ກົມມີປະເພດຕ່າງໆ. ເປົ້າຫມາຍ planar ທີ່ມີເປົ້າຫມາຍໂລຫະເຮັດຄວາມເຢັນນ້ໍາໂດຍກົງ, ແລະບາງບໍ່ສາມາດປຸງແຕ່ງແລະສ້າງເປັນຮູບທໍ່ກົມ, ເຊັ່ນ In2-SnO2 ເປົ້າຫມາຍ, ແລະອື່ນໆດ້ວຍວັດສະດຸຜົງສໍາລັບການກົດ isostatic ຮ້ອນເພື່ອໃຫ້ໄດ້ເປົ້າຫມາຍທີ່ຄ້າຍຄືແຜ່ນ, ເນື່ອງຈາກວ່າຂະຫນາດບໍ່ສາມາດເຮັດໃຫ້ຂະຫນາດໃຫຍ່, ແລະ brittle, ສະນັ້ນມັນຈໍາເປັນຕ້ອງໄດ້ນໍາໃຊ້ວິທີການ brazing ແລະ backplate ທອງແດງເພື່ອປະສົມປະສານກັບຖານແລະຫຼັງຈາກນັ້ນ. ນອກເຫນືອຈາກທໍ່ໂລຫະ, ເປົ້າຫມາຍ columnar ຍັງສາມາດສີດໃສ່ພື້ນຜິວຂອງທໍ່ສະແຕນເລດດ້ວຍວັດສະດຸຕ່າງໆທີ່ຕ້ອງການເຄືອບເຊັ່ນ Si, Cr, ແລະອື່ນໆ.
ໃນປັດຈຸບັນ, ອັດຕາສ່ວນຂອງເປົ້າຫມາຍຮູບທໍ່ກົມສໍາລັບການເຄືອບໃນການຜະລິດອຸດສາຫະກໍາແມ່ນເພີ່ມຂຶ້ນ. ເປົ້າຫມາຍຮູບທໍ່ກົມບໍ່ພຽງແຕ່ໃຊ້ສໍາລັບເຄື່ອງເຄືອບແນວຕັ້ງແຕ່ຍັງໃຊ້ໃນມ້ວນເພື່ອມ້ວນເຄື່ອງເຄືອບ. ໃນຊຸມປີມໍ່ໆມານີ້, ເປົ້າຫມາຍຄູ່ແຝດ planar ຄ່ອຍໆຖືກທົດແທນໂດຍເປົ້າຫມາຍຄູ່ແຝດຮູບທໍ່ກົມ.
—— ບົດຄວາມນີ້ຖືກເປີດເຜີຍໂດຍ Guangdong Zhenhua Technology, aຜູ້ຜະລິດເຄື່ອງເຄືອບ optical.
ເວລາປະກາດ: 11-05-2023