(4) 타겟 재료. 타겟 재료는 스퍼터링 코팅의 핵심 요소입니다. 일반적으로 타겟 재료가 요구 사항을 충족하는 한, 공정 매개변수의 엄격한 제어가 필요합니다. 타겟 재료의 불순물과 표면 산화물 및 기타 불순물은 박막 오염의 주요 원인이므로, 고순도 박막을 얻기 위해서는 고순도 타겟 재료를 사용하는 것 외에도, 스퍼터링 전 타겟을 먼저 스퍼터링하여 타겟 표면을 세정하고 타겟 표면의 산화물층을 제거해야 합니다.
(5) 배경 진공. 배경 진공도는 시스템 내 잔류 가스량을 직접적으로 반영하며, 잔류 가스는 필름층 오염의 중요한 원인이 되므로 배경 진공도를 최대한 높여야 합니다. 또 다른 오염 문제는 오일 확산 펌프가 오일을 오일로 되돌려 멤브레인에 탄소 도핑을 발생시키는 것입니다. 멤브레인 요구 사항이 더 엄격할수록 적절한 조치를 취하거나 오일 프리 고진공 펌핑 시스템을 사용해야 합니다.
(6) 스퍼터링 공기압. 작동 공기압은 멤브레인의 증착 속도에 직접적인 영향을 미칩니다.
또한, 스퍼터링 장치의 전기장, 분위기, 타겟 물질, 기판 온도 및 막 사이의 상호작용 매개변수의 기하학적 구조로 인해 요구사항이 다르므로, 최적의 공정 조건을 찾기 위해 공정 매개변수에 대한 실험을 수행하는 것이 필요합니다.
–이 기사는 다음에서 발행합니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2024년 1월 5일