(4) ಗುರಿ ವಸ್ತು. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಗುರಿ ವಸ್ತುವು ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುವವರೆಗೆ, ಉದ್ದೇಶಿತ ವಸ್ತುವು ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ಲೇಪನಕ್ಕೆ ಪ್ರಮುಖವಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರವನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಿಯತಾಂಕಗಳ ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಿನ ನಿಯಂತ್ರಣದ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಗುರಿ ವಸ್ತು ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ಆಕ್ಸೈಡ್ಗಳಲ್ಲಿನ ಕಲ್ಮಶಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ ಅಶುದ್ಧ ವಸ್ತುಗಳು ಫಿಲ್ಮ್ ಮಾಲಿನ್ಯದ ಪ್ರಮುಖ ಮೂಲವಾಗಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಪದರವನ್ನು ಪಡೆಯಲು, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಗುರಿ ವಸ್ತುವಿನ ಬಳಕೆಯ ಜೊತೆಗೆ, ಪ್ರತಿ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ನಲ್ಲಿ ಗುರಿಯ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸಲು ಪೂರ್ವ-ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ಗೆ ಮೊದಲ ಗುರಿಯಾಗಿರಬೇಕು, ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪದರದ ಗುರಿ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು.
(5) ಹಿನ್ನೆಲೆ ನಿರ್ವಾತ. ಹಿನ್ನೆಲೆ ನಿರ್ವಾತದ ಮಟ್ಟವು ವ್ಯವಸ್ಥೆಯಲ್ಲಿನ ಉಳಿದ ಅನಿಲದ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಪ್ರತಿಬಿಂಬಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಉಳಿದ ಅನಿಲವು ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರದ ಮಾಲಿನ್ಯದ ಪ್ರಮುಖ ಮೂಲವಾಗಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಹಿನ್ನೆಲೆ ನಿರ್ವಾತವನ್ನು ಸಾಧ್ಯವಾದಷ್ಟು ಸುಧಾರಿಸಬೇಕು. ಮತ್ತೊಂದು ಸಮಸ್ಯೆಯ ಮಾಲಿನ್ಯದ ಮೇಲೆ ತೈಲ ಪ್ರಸರಣ ಪಂಪ್ ತೈಲಕ್ಕೆ ಹಿಂತಿರುಗುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಪೊರೆಯಲ್ಲಿ ಇಂಗಾಲದ ಡೋಪಿಂಗ್ ಉಂಟಾಗುತ್ತದೆ, ಪೊರೆಯ ಹೆಚ್ಚು ಕಠಿಣ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಸೂಕ್ತ ಕ್ರಮಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳಬೇಕು ಅಥವಾ ತೈಲ-ಮುಕ್ತ ಹೈ-ವ್ಯಾಕ್ಯೂಮ್ ಪಂಪಿಂಗ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಬಳಸಬೇಕು.
(6) ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಗಾಳಿಯ ಒತ್ತಡ. ಕೆಲಸ ಮಾಡುವ ಗಾಳಿಯ ಒತ್ತಡವು ಪೊರೆಯ ಶೇಖರಣಾ ದರದ ಮೇಲೆ ನೇರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.
ಇದಲ್ಲದೆ, ವಿದ್ಯುತ್ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿನ ವಿಭಿನ್ನ ಸ್ಪಟರಿಂಗ್ ಸಾಧನಗಳು, ವಾತಾವರಣ, ಗುರಿ ವಸ್ತು, ತಲಾಧಾರದ ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು ಜ್ಯಾಮಿತೀಯ ರಚನೆಯ ನಿಯತಾಂಕಗಳು ಮತ್ತು ಪೊರೆಯ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಕ್ರಿಯೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಕಾರಣದಿಂದಾಗಿ, ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಿಯತಾಂಕಗಳ ಮೇಲೆ ಪ್ರಯೋಗಗಳನ್ನು ಮಾಡುವುದು ಅವಶ್ಯಕ, ಇದರಿಂದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು ಉತ್ತಮವಾಗಿ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ.
–ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಪ್ರಕಟಿಸಿದವರುನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರ ತಯಾರಕಗುವಾಂಗ್ಡಾಂಗ್ ಝೆನ್ಹುವಾ
ಪೋಸ್ಟ್ ಸಮಯ: ಜನವರಿ-05-2024