(4) Cílový materiál. Cílový materiál je obecně klíčem k naprašování, pokud splňuje požadavky, a pro získání vrstvy filmu může být vyžadována přísná kontrola procesních parametrů. Nečistoty v cílovém materiálu a povrchové oxidy a další nečistoty jsou důležitým zdrojem kontaminace filmu, takže pro získání vysoce čisté vrstvy by měl být kromě použití vysoce čistého cílového materiálu při každém naprašování první cíl předběžně naprašován, aby se povrch terče očistil a odstranila se z povrchu terče vrstva oxidu.
(5) Podtlak pozadí. Úroveň podtlaku pozadí přímo odráží množství zbytkového plynu v systému a zbytkový plyn je také důležitým zdrojem kontaminace filmové vrstvy, proto by se podtlak pozadí měl co nejvíce zlepšit. Dalším problémem při znečištění je difuzní čerpadlo zpět do oleje, což vede k dopování uhlíkem v membráně. Měly by se přijmout vhodná opatření s ohledem na přísnější požadavky na membránu nebo použít bezolejový vysokotlaký čerpací systém.
(6) tlak naprašovacího vzduchu. Pracovní tlak vzduchu přímo ovlivňuje rychlost nanášení membrány.
Kromě toho, vzhledem k různým parametrům interakce mezi membránami v rozprašovacích zařízeních v elektrickém poli, atmosféře, materiálu terče, teplotě substrátu a geometrické struktuře, je nutné provést experimenty s parametry procesu, z nichž lze vybrat nejlepší procesní podmínky.
–Tento článek vydávávýrobce vakuových lakovacích strojůGuangdong Zhenhua
Čas zveřejnění: 5. ledna 2024