(4) Materiale di destinazione. U materiale di destinazione hè a chjave per u rivestimentu di sputtering, in generale, basta chì u materiale di destinazione risponde à i requisiti, è un cuntrollu strettu di i parametri di u prucessu pò esse necessariu per ottene u stratu di film. L'impurità in u materiale di destinazione è l'ossidi di a superficia è altre sustanzi impure sò una fonte impurtante di contaminazione di u film, dunque per ottene un stratu di alta purezza, in più di l'usu di materiale di destinazione di alta purezza, in ogni sputtering deve esse u primu bersagliu per u pre-sputtering per pulisce a superficia di u bersagliu, per rimuovere a superficia di u bersagliu di u stratu d'ossidu.
(5) Vuotu di fondu. U livellu di u vacuum di fondu riflette direttamente a quantità di gas residuale in u sistema, è u gas residuale hè ancu una fonte impurtante di contaminazione di u stratu di film, dunque u vacuum di fondu deve esse migliuratu u più pussibule. Un altru prublema di l'inquinamentu hè a pompa di diffusione di l'oliu chì torna à l'oliu, chì risulta in u doping di carbone in a membrana. I requisiti più severi di a membrana devenu piglià misure adatte o aduprà un sistema di pompaggio à altu vacuum senza oliu.
(6) pressione di l'aria di sputtering. A pressione di l'aria di travagliu affetta direttamente a velocità di deposizione di a membrana.
Inoltre, per via di i sfarenti dispusitivi di sputtering in u campu elettricu, l'atmosfera, u materiale di destinazione, a temperatura di u substratu è a struttura geometrica di i parametri di l'interazione trà a membrana per pruduce i requisiti, hè necessariu fà esperimenti nantu à i parametri di u prucessu, da quale e migliori cundizioni di prucessu.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 5 di ghjennaghju di u 2024