(4) Target nga materyal. Ang target nga materyal mao ang yawe sa sputtering coating, sa kinatibuk-an, basta ang target nga materyal makatagbo sa mga kinahanglanon, ug ang higpit nga pagkontrol sa mga parameter sa proseso mahimong gikinahanglan aron makuha ang layer sa pelikula. Ang mga impurities sa target nga materyal ug nawong oxides ug uban pang mga dili putli nga mga butang mao ang usa ka importante nga tinubdan sa pelikula kontaminasyon, mao nga aron sa pagkuha sa usa ka taas nga kaputli layer, dugang pa sa paggamit sa hatag-as nga kaputli target nga materyal, sa matag sputtering kinahanglan nga ang unang target alang sa pre-sputtering aron sa paglimpyo sa nawong sa target, sa pagtangtang sa target nawong sa oxide layer.
(5) Background vacuum. Ang lebel sa background vacuum direkta nga nagpakita sa gidaghanon sa nahabilin nga gas sa sistema, ug ang nahabilin nga gas usa usab ka importante nga tinubdan sa kontaminasyon sa layer sa pelikula, mao nga ang background vacuum kinahanglan nga pauswagon kutob sa mahimo. Sa polusyon sa laing problema mao ang oil diffusion pump balik sa lana, nga miresulta sa carbon doping sa lamad, ang mas higpit nga mga kinahanglanon sa lamad kinahanglan nga mokuha sa angay nga mga lakang o ang paggamit sa oil-free high-vacuum pumping system.
(6) pag-sputter sa presyur sa hangin. Ang nagtrabaho nga presyur sa hangin direkta nga nakaapekto sa rate sa pagdeposito sa lamad.
Dugang pa, tungod sa lain-laing mga sputtering mga himan sa electric kapatagan, atmospera, target nga materyal, substrate temperatura ug geometric nga gambalay sa mga lantugi sa interaksiyon tali sa lamad sa paghimo sa mga kinahanglanon, kini mao ang gikinahanglan nga sa pagbuhat sa mga eksperimento sa mga lantugi sa proseso, gikan sa diin ang labing maayo nga mga kahimtang sa proseso.
–Kini nga artikulo gipagawas nivacuum coating machine manufacturerGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Ene-05-2024