Механичките својства на мембранскиот слој се под влијание на адхезијата, напрегањето, густината на агрегација итн. Од односот помеѓу материјалот на мембранскиот слој и факторите на процесот, може да се види дека ако сакаме да ја подобриме механичката цврстина на мембранскиот слој, треба да се фокусираме на следниве параметри на процесот:
(1) ниво на вакуум. Вакуумот врз перформансите на филмот е многу очигледен. Повеќето од индикаторите за перформанси на филмскиот слој се многу зависни од нивото на вакуум. Обично, како што се зголемува степенот на вакуум, се зголемува густината на агрегација на филмот, се зголемува цврстината, се подобрува структурата на филмот, хемискиот состав станува чист, но во исто време се зголемува и стресот.
(2) Стапка на таложење. Подобрувањето на стапката на таложење не само што може да се користи за подобрување на стапката на испарување, односно зголемување на температурата на изворот на испарување, туку може да се користи и за зголемување на површината на изворот на испарување, но употребата на изворот на испарување за зголемување на температурата на пристапот има свои недостатоци: го прави мембранскиот слој стрес преголем; гасот што формира филм е лесен за распаѓање. Затоа, понекогаш зголемувањето на површината на изворот на испарување е поповолно отколку подобрувањето на температурата на изворот на испарување.
(3) температура на подлогата. Зголемувањето на температурата на подлогата е погодно за адсорпција на површината на подлогата, со што се елиминираат преостанатите молекули на гас, се зголемува силата на врзување помеѓу подлогата и наталожените молекули: во исто време ќе се промовира конверзијата на физичката адсорпција во хемиска адсорпција, ќе се подобри интеракцијата помеѓу молекулите, така што структурата на мембранскиот слој ќе биде цврста. На пример, загревањето на Mg мембрана на подлогата на 250 ~ 300 ℃ може да го намали внатрешниот стрес, да ја подобри густината на агрегација и да ја зголеми тврдоста на мембранскиот слој: загревањето на подлогата на 120 ~ 150 ℃ за подготовка на Zr03-Si02 повеќеслојна мембрана значително ја зголемува механичката цврстина, но превисоката температура на подлогата ќе предизвика влошување на мембранскиот слој.
(4) Јонско бомбардирање. Јонското бомбардирање има ефект врз формирањето на високо кохезивни површини, грубоста на површината, оксидацијата и густината на агрегација. Бомбардирањето пред премачкување може да ја исчисти површината и да ја зголеми адхезијата; бомбардирањето по премачкувањето може да ја подобри густината на агрегација на филмскиот слој итн., со што се зголемува механичката цврстина и тврдост.
(5) Чистење на подлогата. Методот за чистење на подлогата не е соодветен или не е чист, во подлогата има преостанати нечистотии или средство за чистење, што предизвикува ново загадување, во облогата има различни услови на кохезија и адхезија, што влијае на структурните својства на првиот слој и оптичката дебелина, но исто така го прави филмскиот слој лесно да се одвои од подлогата, со што се менуваат карактеристиките на филмскиот слој.
– Оваа статија е објавена одпроизводител на машина за вакуумско обложувањеГуангдонг Женхуа
Време на објавување: 04.05.2024