Métodos de proceso para mejorar la resistencia mecánica de la capa de película

Las propiedades mecánicas de la capa de membrana se ven afectadas por la adhesión, la tensión, la densidad de agregación, etc. A partir de la relación entre el material de la capa de membrana y los factores del proceso, se puede observar que si queremos mejorar la resistencia mecánica de la capa de membrana, debemos centrarnos en los siguientes parámetros del proceso:

(1) Nivel de vacío. El efecto del vacío en el rendimiento de la película es muy evidente. La mayoría de los indicadores de rendimiento de la capa de película dependen en gran medida del nivel de vacío. Generalmente, a medida que aumenta el grado de vacío, aumenta la densidad de agregación de la película, la firmeza, la estructura de la película y la pureza de su composición química, pero al mismo tiempo, también aumenta la tensión.

(2) Tasa de deposición. Mejorar la tasa de deposición no solo puede mejorar la tasa de evaporación, es decir, aumentando la temperatura de la fuente de evaporación, sino que también puede aumentar el área de la fuente de evaporación para lograrlo. Sin embargo, aumentar la temperatura de la fuente de evaporación tiene sus inconvenientes: genera una tensión excesiva en la capa de membrana y facilita la descomposición del gas formador de película. Por lo tanto, a veces es más conveniente aumentar el área de la fuente de evaporación que mejorar su temperatura.

(3) Temperatura del sustrato. Aumentar la temperatura del sustrato favorece la adsorción en la superficie del sustrato de las moléculas de gas restantes para excluir, aumentar el sustrato y la fuerza de unión entre las moléculas depositadas: al mismo tiempo, promoverá la conversión de adsorción física a adsorción química, mejorará la interacción entre las moléculas, de modo que la estructura de la capa de membrana sea compacta. Por ejemplo, Mg, membrana, calentar el sustrato a 250 ~ 300 ℃ puede reducir la tensión interna, mejorar la densidad de agregación, aumentar la dureza de la capa de membrana: calentar el sustrato a 120 ~ 150 ℃ preparó Zr03-Si02, membrana multicapa, su resistencia mecánica aumentó mucho, pero una temperatura del sustrato demasiado alta causará el deterioro de la capa de membrana.

(4) Bombardeo iónico. El bombardeo iónico influye en la formación de superficies altamente cohesivas, la rugosidad superficial, la oxidación y la densidad de agregación. El bombardeo previo al recubrimiento limpia la superficie y aumenta la adhesión; el bombardeo posterior al recubrimiento mejora la densidad de agregación de la capa de película, etc., incrementando así la resistencia mecánica y la dureza.

(5) Limpieza del sustrato. Si el método de limpieza del sustrato no es apropiado o no es limpio, en el sustrato quedan impurezas residuales o agentes de limpieza, lo que provoca nueva contaminación, en el recubrimiento diferentes condiciones de cohesión y adhesión, afectando las propiedades estructurales y el espesor óptico de la primera capa, y también haciendo que la capa de película se desprenda fácilmente del sustrato, cambiando así las características de la capa de película.

–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua