Mga Paraan ng Proseso upang Mapabuti ang Mekanikal na Lakas ng Film Layer

Ang mga mekanikal na katangian ng patong ng lamad ay apektado ng pagdikit, stress, densidad ng pagsasama-sama, atbp. Mula sa ugnayan sa pagitan ng materyal ng patong ng lamad at mga salik ng proseso, makikita na kung nais nating pagbutihin ang mekanikal na lakas ng patong ng lamad, dapat nating ituon ang pansin sa mga sumusunod na parameter ng proseso:

(1) antas ng vacuum. Ang vacuum sa pagganap ng pelikula ay napakalinaw. Karamihan sa mga tagapagpahiwatig ng pagganap ng layer ng pelikula ay lubos na nakadepende sa antas ng vacuum. Kadalasan, habang tumataas ang antas ng vacuum, tumataas ang densidad ng pagsasama-sama ng pelikula, tumataas ang katatagan, bumubuti ang istraktura ng pelikula, nagiging puro ang kemikal na komposisyon, ngunit kasabay nito ay tumataas din ang stress.

(2) Bilis ng Pagdeposito. Ang pagpapabuti ng bilis ng deposisyon ay hindi lamang maaaring gamitin upang mapabuti ang bilis ng pagsingaw, ibig sabihin, pataasin ang temperatura ng pinagmumulan ng pagsingaw, maaari ring gamitin upang makamit ang pamamaraan ng pagtaas ng lugar ng pinagmumulan ng pagsingaw, ngunit ang paggamit ng pinagmumulan ng pagsingaw upang mapataas ang temperatura ng pamamaraan ay may mga disbentaha: nagiging masyadong malaki ang stress sa layer ng lamad; madaling mabulok ang gas na bumubuo ng pelikula. Kaya minsan mas kanais-nais na dagdagan ang lugar ng pinagmumulan ng pagsingaw kaysa sa pagpapabuti ng temperatura ng pinagmumulan ng pagsingaw.

(3) temperatura ng substrate. Ang pagtaas ng temperatura ng substrate ay nakakatulong sa adsorption sa ibabaw ng substrate upang maiwasan ang natitirang mga molekula ng gas, dagdagan ang puwersa ng substrate at ang pagbubuklod sa pagitan ng mga idinepositong molekula: kasabay nito ay itataguyod ang conversion ng pisikal na adsorption sa kemikal na adsorption, mapapahusay ang interaksyon sa pagitan ng mga molekula, upang ang istraktura ng layer ng lamad ay masikip. Halimbawa, ang Mg, lamad, na pinainit sa 250 ~ 300 ℃ substrate ay maaaring mabawasan ang panloob na stress, mapabuti ang density ng pagsasama-sama, pataasin ang katigasan ng layer ng lamad: ang pag-init ng substrate sa 120 ~ 150 ℃ inihanda na Zr03-Si02, multilayer membrane, ang mekanikal na lakas nito ay tumaas nang malaki, ngunit ang temperatura ng substrate ay masyadong mataas ay magdudulot ng pagkasira ng layer ng lamad.

(4) Pagbomba ng Ion. Ang pagbomba ng Ion ay may epekto sa pagbuo ng mga ibabaw na lubos na magkakaugnay, pagkamagaspang ng ibabaw, oksihenasyon at densidad ng pagsasama-sama. Ang pagbomba bago ang patong ay maaaring linisin ang ibabaw at mapataas ang pagdikit; ang pagbomba pagkatapos ng patong ay maaaring mapabuti ang densidad ng pagsasama-sama ng layer ng pelikula, atbp., kaya pinapataas ang mekanikal na lakas at katigasan.

(5) Paglilinis ng substrate. Ang paraan ng paglilinis ng substrate ay hindi angkop o hindi malinis, kung saan ang mga natitirang dumi o ahente ng paglilinis sa substrate ay maaaring magdulot ng bagong polusyon, at sa patong ay magkakaroon ng iba't ibang kondisyon ng pagkakaisa at pagdikit, na nakakaapekto sa mga katangian ng istruktura at kapal ng optika ng unang layer, ngunit ginagawang madali ring matanggal ang film layer mula sa substrate, kaya binabago ang mga katangian ng film layer.

–Inilabas ang artikulong ito nitagagawa ng vacuum coating machineGuangdong Zhenhua