झिल्ली परत के यांत्रिक गुण आसंजन, तनाव, एकत्रीकरण घनत्व आदि से प्रभावित होते हैं। झिल्ली परत सामग्री और प्रक्रिया कारकों के बीच संबंध से यह देखा जा सकता है कि यदि हम झिल्ली परत की यांत्रिक शक्ति में सुधार करना चाहते हैं, तो हमें निम्नलिखित प्रक्रिया मापदंडों पर ध्यान केंद्रित करना चाहिए:
(1) निर्वात स्तर। फिल्म के प्रदर्शन पर निर्वात का प्रभाव बहुत स्पष्ट है। फिल्म परत के अधिकांश प्रदर्शन संकेतक निर्वात स्तर पर बहुत अधिक निर्भर करते हैं। आमतौर पर, निर्वात की डिग्री बढ़ने पर, फिल्म का एकत्रीकरण घनत्व बढ़ता है, दृढ़ता बढ़ती है, फिल्म की संरचना में सुधार होता है, रासायनिक संरचना शुद्ध हो जाती है, लेकिन साथ ही तनाव भी बढ़ता है।
(2) निक्षेपण दर। निक्षेपण दर में सुधार न केवल वाष्पीकरण दर को बढ़ाने के लिए किया जा सकता है, यानी वाष्पीकरण स्रोत के तापमान को बढ़ाकर, बल्कि वाष्पीकरण स्रोत के क्षेत्रफल को बढ़ाकर भी यह लक्ष्य प्राप्त किया जा सकता है। हालांकि, वाष्पीकरण स्रोत के तापमान को बढ़ाने के इस तरीके की कुछ कमियां हैं: इससे झिल्ली परत पर तनाव बहुत बढ़ जाता है; और फिल्म बनाने वाली गैस आसानी से विघटित हो जाती है। इसलिए, कभी-कभी वाष्पीकरण स्रोत के तापमान को बढ़ाने की तुलना में वाष्पीकरण स्रोत के क्षेत्रफल को बढ़ाना अधिक उपयुक्त होता है।
(3) सबस्ट्रेट तापमान। सबस्ट्रेट तापमान बढ़ाने से सबस्ट्रेट सतह पर शेष गैस अणुओं के अधिशोषण में सहायता मिलती है, जिससे वे बाहर निकल जाते हैं और सबस्ट्रेट तथा अधिशोषित अणुओं के बीच बंधन बल बढ़ता है। साथ ही, यह भौतिक अधिशोषण को रासायनिक अधिशोषण में परिवर्तित करने में सहायक होता है, अणुओं के बीच अंतःक्रिया को बढ़ाता है, जिससे झिल्ली परत की संरचना मजबूत होती है। उदाहरण के लिए, मैग्नीशियम झिल्ली के लिए, सबस्ट्रेट को 250 ~ 300 ℃ तक गर्म करने से आंतरिक तनाव कम होता है, एकत्रीकरण घनत्व में सुधार होता है और झिल्ली परत की कठोरता बढ़ती है। 120 ~ 150 ℃ तक सबस्ट्रेट को गर्म करके Zr03-Si02 बहुपरत झिल्ली तैयार की जाती है, जिसकी यांत्रिक शक्ति में काफी वृद्धि होती है, लेकिन सबस्ट्रेट का तापमान बहुत अधिक होने से झिल्ली परत का क्षरण हो सकता है।
(4) आयन बमबारी। आयन बमबारी का प्रभाव अत्यधिक संसंजक सतहों के निर्माण, सतह की खुरदरापन, ऑक्सीकरण और एकत्रीकरण घनत्व पर पड़ता है। कोटिंग से पहले की बमबारी सतह को साफ कर सकती है और आसंजन बढ़ा सकती है; कोटिंग के बाद की बमबारी फिल्म परत के एकत्रीकरण घनत्व आदि में सुधार कर सकती है, जिससे यांत्रिक शक्ति और कठोरता बढ़ जाती है।
(5) सब्सट्रेट की सफाई। सब्सट्रेट की सफाई विधि उपयुक्त नहीं है या सब्सट्रेट को साफ नहीं करती है, सब्सट्रेट में अवशिष्ट अशुद्धियाँ या सफाई एजेंट रह जाते हैं, जिससे नया प्रदूषण होता है, कोटिंग की विभिन्न सामंजस्य स्थितियों और आसंजन में, पहली परत के संरचनात्मक गुणों और ऑप्टिकल मोटाई को प्रभावित करता है, साथ ही फिल्म परत को सब्सट्रेट से आसानी से अलग होने का कारण बनता है, जिससे फिल्म परत की विशेषताओं में परिवर्तन होता है।
–यह लेख द्वारा प्रकाशित किया गया हैवैक्यूम कोटिंग मशीन निर्मातागुआंग्डोंग झेंहुआ
पोस्ट करने का समय: 04 मई 2024