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Notizia
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Diagramma di flusso del processo della macchina per rivestimento a sputtering
1. Pulizia del substrato mediante bombardamento 1.1) La macchina per la deposizione a sputtering utilizza una scarica a bagliore per pulire il substrato. Vale a dire, si carica il gas argon nella camera, la tensione di scarica è di circa 1000 V, dopo aver acceso l'alimentatore, viene generata una scarica a bagliore e il substrato viene pulito da...Per saperne di più -
Applicazione di pellicole ottiche nei prodotti per telefoni cellulari
L'applicazione di pellicole ottiche sottili nei prodotti di elettronica di consumo come i telefoni cellulari si è spostata dalle tradizionali lenti delle fotocamere a una direzione diversificata, come lenti per fotocamere, protezioni per lenti, filtri di taglio a infrarossi (IR-CUT) e rivestimenti NCVM sui coperchi delle batterie dei telefoni cellulari. Le lenti delle fotocamere...Per saperne di più -
Caratteristiche delle apparecchiature per la deposizione chimica da fase vapore (CVD)
La tecnologia di rivestimento CVD presenta le seguenti caratteristiche: 1. Il processo operativo delle apparecchiature CVD è relativamente semplice e flessibile e può preparare film singoli o compositi e film di lega con diverse proporzioni; 2. Il rivestimento CVD ha una vasta gamma di applicazioni e può essere utilizzato per pre...Per saperne di più -
Quali sono i processi della macchina per la deposizione sottovuoto? Qual è il principio di funzionamento?
Il processo della macchina per la deposizione sottovuoto è suddiviso in: deposizione per evaporazione sottovuoto, deposizione per sputtering sottovuoto e deposizione ionica sottovuoto. 1. Deposizione per evaporazione sottovuoto: in condizioni di vuoto, il materiale, come metallo, lega metallica, ecc., viene fatto evaporare e poi depositato sulla superficie del substrato...Per saperne di più -
A cosa serve l'aspirapolvere?
1. Cos'è il processo di rivestimento sottovuoto? Qual è la sua funzione? Il cosiddetto processo di rivestimento sottovuoto utilizza l'evaporazione e lo sputtering in un ambiente sottovuoto per emettere particelle di materiale filmogeno, depositate su parti metalliche, vetrose, ceramiche, semiconduttori e plastiche per formare uno strato di rivestimento, per la decorazione...Per saperne di più -
Requisiti ambientali per le apparecchiature di rivestimento sottovuoto
Poiché le apparecchiature per la verniciatura sottovuoto funzionano in condizioni di vuoto, devono soddisfare i requisiti di vuoto per l'ambiente. Gli standard industriali per vari tipi di apparecchiature per la verniciatura sottovuoto formulati nel mio paese (incluse le condizioni tecniche generali per le apparecchiature per la verniciatura sottovuoto,...Per saperne di più -
Caratteristiche e applicazioni della placcatura ionica
Tipo di pellicola Materiale della pellicola Substrato Caratteristiche e applicazione della pellicola Pellicola metallica CrAl, ZnPtNi Au,Cu,Al P, Au Au,W,Ti,Ta Ag, Au,Al, Pt acciaio, acciaio dolce Lega di titanio, acciaio ad alto tenore di carbonio, acciaio dolce Lega di titanio vetro duro plastica Nichel, acciaio Inconel, acciaio inossidabile silicio Antiusura ...Per saperne di più -
Rivestimento ionico sottovuoto e sua classificazione
La placcatura ionica sottovuoto (o placcatura ionica in breve) è una nuova tecnologia di trattamento superficiale che si è sviluppata rapidamente negli anni '70, proposta da DM Mattox della Somdia Company negli Stati Uniti nel 1963. Si riferisce al processo di utilizzo di una sorgente di evaporazione o di un bersaglio di sputtering per evaporare o spruzzare...Per saperne di più -
La macchina per il rivestimento ottico può essere utilizzata per rivestire più pellicole ottiche
① Pellicola antiriflesso. Ad esempio, fotocamere, proiettori di diapositive, proiettori, proiettori cinematografici, telescopi, mirini e pellicole monostrato di MgF rivestite su lenti e prismi di vari strumenti ottici, e pellicole antiriflesso a banda larga a doppio o multistrato composte da SiOFrO2, AlO, ...Per saperne di più -
Caratteristiche dei film di rivestimento ottenuti mediante sputtering
① Buona controllabilità e ripetibilità dello spessore del film La controllabilità dello spessore del film si riferisce alla possibilità di controllare lo spessore del film a un valore predeterminato. La ripetibilità dello spessore del film richiesto si riferisce alla possibilità di ripetere il film più volte. Poiché la scarica...Per saperne di più -
Breve introduzione alla tecnologia di deposizione chimica da fase vapore (CVD)
La tecnologia di deposizione chimica da fase vapore (CVD) è una tecnologia di formazione di film che utilizza riscaldamento, potenziamento al plasma, foto-assistenza e altri mezzi per far sì che sostanze gassose producano film solidi sulla superficie del substrato attraverso una reazione chimica a pressione normale o bassa. Generalmente, la reazione in...Per saperne di più -
Fattori che influenzano le prestazioni della placcatura per evaporazione sotto vuoto
1. La velocità di evaporazione influisce sulle proprietà del rivestimento depositato. La velocità di evaporazione ha una grande influenza sul film depositato. Poiché la struttura del rivestimento formata da una bassa velocità di deposizione è porosa e tende a produrre depositi di particelle di grandi dimensioni, è molto più sicuro scegliere una velocità di evaporazione più elevata...Per saperne di più -
Quali sono le fonti di inquinamento delle apparecchiature per la deposizione sottovuoto?
Le apparecchiature per la deposizione sottovuoto sono composte da numerose parti di precisione, realizzate attraverso diversi processi quali saldatura, rettifica, tornitura, piallatura, alesatura, fresatura e così via. A causa di queste lavorazioni, la superficie delle parti dell'apparecchiatura si contaminerà inevitabilmente con agenti inquinanti come il grasso...Per saperne di più -
Quali sono i requisiti del processo di rivestimento sottovuoto per l'ambiente di applicazione?
Il processo di rivestimento sottovuoto ha requisiti rigorosi per l'ambiente di applicazione. Per il processo sottovuoto convenzionale, i requisiti principali per la sanificazione del vuoto sono: non vi è alcuna fonte di contaminazione accumulata sulle parti o sulla superficie dell'apparecchiatura nel vuoto, la superficie della camera a vuoto...Per saperne di più -
Qual è il principio di funzionamento di una macchina per la placcatura ionica?
La macchina per la deposizione di ioni ha avuto origine dalla teoria proposta da DM Mattox negli anni '60, e i relativi esperimenti iniziarono in quel periodo; fino al 1971, Chambers e altri pubblicarono la tecnologia della deposizione ionica a fascio di elettroni; la tecnologia di deposizione per evaporazione reattiva (ARE) fu indicata nel Bu...Per saperne di più
