3. Influenza della temperatura del substrato
La temperatura del substrato è una delle condizioni importanti per la crescita della membrana. Fornisce un apporto energetico aggiuntivo agli atomi o alle molecole della membrana e influenza principalmente la struttura della membrana, il coefficiente di agglutinazione, il coefficiente di espansione e la densità di aggregazione. La riflessione macroscopica nell'indice di rifrazione del film, la diffusione, lo stress, l'adesione, la durezza e l'insolubilità saranno notevolmente diversi a seconda della temperatura del substrato.
(1) Substrato freddo: generalmente utilizzato per l'evaporazione di film metallici.
(2) Vantaggi delle alte temperature:
① Le molecole di gas residue adsorbite sulla superficie del substrato vengono rimosse per aumentare la forza di legame tra il substrato e le molecole depositate;
(2) Promuovere la trasformazione dell'adsorbimento fisico in chemisorbimento dello strato di film, migliorare l'interazione tra le molecole, rendere il film compatto, aumentare l'adesione e migliorare la resistenza meccanica;
③ Ridurre la differenza tra la temperatura di ricristallizzazione molecolare del vapore e la temperatura del substrato, migliorare la densità dello strato di film, aumentare la durezza dello strato di film per eliminare le tensioni interne.
(3) Lo svantaggio di una temperatura troppo elevata: la struttura dello strato del film cambia o il materiale del film si decompone.
4. Effetti del bombardamento ionico
Bombardamento dopo la placcatura: migliora la densità di aggregazione del film, potenzia la reazione chimica, aumenta l'indice di rifrazione del film di ossido, la resistenza meccanica e l'adesione. Aumenta la soglia di danneggiamento da luce.
5. L'influenza del materiale del substrato
(1) Un diverso coefficiente di espansione del materiale del substrato comporterà una diversa sollecitazione termica del film;
(2) Una diversa affinità chimica influenzerà l'adesione e la fermezza del film;
(3) La rugosità e i difetti del substrato sono le principali fonti di diffusione del film sottile.
6. Impatto della pulizia del substrato
I residui di sporco e detergente sulla superficie del substrato porteranno a: (1) scarsa adesione del film al substrato; ② L'assorbimento per diffusione aumenta, la capacità anti-laser è scarsa; ③ Scarse prestazioni di trasmissione della luce.
La composizione chimica (purezza e tipi di impurità), lo stato fisico (polvere o blocco) e il pretrattamento (sinterizzazione sotto vuoto o forgiatura) del materiale del film influiranno sulla struttura e sulle prestazioni del film stesso.
8. Influenza del metodo di evaporazione
L'energia cinetica iniziale fornita dai diversi metodi di evaporazione per vaporizzare molecole e atomi è molto diversa, il che si traduce in una grande differenza nella struttura del film, che si manifesta come differenza nell'indice di rifrazione, nella diffusione e nell'adesione.
9. Influenza dell'angolo di incidenza del vapore
L'angolo di incidenza del vapore si riferisce all'angolo tra la direzione di emissione della radiazione molecolare del vapore e la normale alla superficie del substrato rivestito, che influenza le caratteristiche di crescita e la densità di aggregazione del film, e ha una grande influenza sull'indice di rifrazione e sulle caratteristiche di diffusione del film. Per ottenere film di alta qualità, è necessario controllare l'angolo di emissione delle molecole di vapore del materiale del film, che in genere dovrebbe essere limitato a 30°.
10. Effetti del trattamento di cottura
Il trattamento termico della pellicola in atmosfera favorisce il rilascio delle tensioni e la migrazione termica delle molecole del gas ambiente e delle molecole della pellicola, e può provocare la ricombinazione della struttura della pellicola, influenzando quindi notevolmente l'indice di rifrazione, le tensioni e la durezza della pellicola.
Data di pubblicazione: 29 marzo 2024