1. La tecnologia di deposizione assistita da fascio ionico è caratterizzata da una forte adesione tra la membrana e il substrato, con uno strato di membrana molto resistente. Gli esperimenti dimostrano che: l'adesione della deposizione assistita da fascio ionico è aumentata di diverse volte rispetto a quella della deposizione termica da vapore (TDV), principalmente grazie al bombardamento ionico sulla superficie, che produce un effetto di pulizia, consentendo all'interfaccia di base della membrana di formare una struttura interfacciale a gradiente, o strato di transizione ibrido, e di ridurre lo stress della membrana.
2. La deposizione assistita da fascio ionico può migliorare le proprietà meccaniche del film, prolungarne la durata a fatica ed è particolarmente indicata per la preparazione di rivestimenti di ossidi, carburi, BN cubico, TiB2 e simili al diamante. Ad esempio, nell'acciaio resistente al calore 1Cr18Ni9Ti, l'utilizzo della tecnologia di deposizione assistita da fascio ionico per la crescita di un film di Si3N4 a 200 nm non solo può inibire la formazione di cricche da fatica sulla superficie del materiale, ma anche ridurre significativamente la velocità di diffusione delle cricche da fatica, prolungandone la durata.
3. La deposizione assistita da fascio ionico può modificare la natura dello stress del film e la sua struttura cristallina. Ad esempio, la preparazione di un film di Cr con bombardamento di Xe+ o Ar+ a 11,5 keV della superficie del substrato ha dimostrato che la regolazione della temperatura del substrato, dell'energia degli ioni di bombardamento, degli ioni e degli atomi per raggiungere il rapporto tra i parametri può modificare lo stress da trazione a compressione, con conseguente variazione della struttura cristallina del film. Sotto un certo rapporto di arrivo ioni-atomi, la deposizione assistita da fascio ionico presenta un orientamento selettivo migliore rispetto allo strato di membrana depositato mediante deposizione termica da vapore.
4. La deposizione assistita da fascio ionico può migliorare la resistenza alla corrosione e all'ossidazione della membrana. Grazie alla densità della deposizione assistita da fascio ionico dello strato di film, si ottiene un miglioramento della struttura dell'interfaccia di base del film o la formazione di uno stato amorfo causato dalla scomparsa dei bordi di grano tra le particelle, che favorisce il miglioramento della resistenza alla corrosione del materiale e la resistenza all'ossidazione ad alte temperature.
5. La deposizione assistita da fascio di ioni può modificare le proprietà elettromagnetiche della pellicola e migliorare le prestazioni dei film ottici sottili.
6. La deposizione assistita da ioni consente una regolazione precisa e indipendente dei parametri relativi alla deposizione atomica e all'impianto ionico e consente la generazione successiva di rivestimenti di pochi micrometri con composizione costante a basse energie di bombardamento, in modo che vari film sottili possano essere coltivati a temperatura ambiente, evitando gli effetti negativi sui materiali o sulle parti di precisione che possono essere causati dal loro trattamento a temperature elevate.
–Questo articolo è pubblicato daproduttore di macchine per rivestimento sotto vuotoGuangdongZhenhua
Data di pubblicazione: 24-gen-2024