1. Công nghệ lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion có đặc điểm là độ bám dính mạnh giữa màng và chất nền, lớp màng rất bền. Các thí nghiệm cho thấy: độ bám dính của phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion cao hơn nhiều lần, thậm chí hàng trăm lần so với phương pháp lắng đọng hơi nhiệt, nguyên nhân chủ yếu là do sự bắn phá ion trên bề mặt có tác dụng làm sạch, giúp tạo thành cấu trúc giao diện gradient hoặc lớp chuyển tiếp lai giữa lớp nền và màng, đồng thời giảm ứng suất trên màng.
2. Phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion có thể cải thiện các tính chất cơ học của màng, kéo dài tuổi thọ mỏi, rất phù hợp cho việc chế tạo các lớp phủ oxit, cacbua, BN lập phương, TiB2 và các lớp phủ giống kim cương. Ví dụ, trong thép chịu nhiệt 1Cr18Ni9Ti, việc sử dụng công nghệ lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion để tạo màng Si3N4 dày 200nm không chỉ có thể ức chế sự xuất hiện của các vết nứt mỏi trên bề mặt vật liệu mà còn làm giảm đáng kể tốc độ lan truyền vết nứt mỏi, giúp kéo dài tuổi thọ của vật liệu.
3. Phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion có thể thay đổi bản chất ứng suất của màng và cấu trúc tinh thể của nó. Ví dụ, trong quá trình chế tạo màng Cr bằng cách bắn phá bề mặt chất nền bằng ion Xe+ hoặc Ar+ có năng lượng 11,5keV, người ta nhận thấy rằng việc điều chỉnh nhiệt độ chất nền, năng lượng ion bắn phá, tỷ lệ ion và nguyên tử để đạt được các thông số mong muốn có thể làm cho ứng suất chuyển từ ứng suất kéo sang ứng suất nén, cấu trúc tinh thể của màng cũng sẽ thay đổi. Dưới một tỷ lệ ion/nguyên tử nhất định, phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion có khả năng định hướng chọn lọc tốt hơn so với lớp màng được lắng đọng bằng phương pháp lắng đọng hơi nhiệt.
4. Phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion có thể tăng cường khả năng chống ăn mòn và chống oxy hóa của màng. Do mật độ của lớp màng được lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion, cấu trúc giao diện nền của màng được cải thiện hoặc sự hình thành trạng thái vô định hình do sự biến mất của các ranh giới hạt giữa các hạt, điều này có lợi cho việc tăng cường khả năng chống ăn mòn của vật liệu và chống oxy hóa ở nhiệt độ cao.
5. Phương pháp lắng đọng hỗ trợ bằng chùm ion có thể thay đổi các đặc tính điện từ của màng và cải thiện hiệu suất của màng mỏng quang học.
6. Phương pháp lắng đọng có hỗ trợ ion cho phép điều chỉnh chính xác và độc lập các thông số liên quan đến lắng đọng nguyên tử và cấy ion, đồng thời cho phép tạo ra liên tiếp các lớp phủ dày vài micromet với thành phần nhất quán ở năng lượng bắn phá thấp, nhờ đó có thể tạo ra nhiều lớp màng mỏng khác nhau ở nhiệt độ phòng, tránh được những tác động bất lợi lên vật liệu hoặc các bộ phận chính xác có thể do xử lý chúng ở nhiệt độ cao gây ra.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 24/01/2024