1. Teknologi deposisi berbantuan berkas ion dicirikan oleh adhesi yang kuat antara membran dan substrat, lapisan membran sangat kuat. Eksperimen menunjukkan bahwa: adhesi deposisi berbantuan berkas ion meningkat beberapa kali hingga ratusan kali lipat dibandingkan adhesi deposisi uap termal, alasannya terutama karena efek pembersihan bombardir ion pada permukaan, sehingga antarmuka dasar membran membentuk struktur antarmuka gradien, atau lapisan transisi hibrida, serta mengurangi tegangan membran.
2. Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat meningkatkan sifat mekanik film, memperpanjang umur kelelahan, sangat cocok untuk pembuatan oksida, karbida, BN kubik, TiB2, dan lapisan mirip intan. Misalnya, pada baja tahan panas 1Cr18Ni9Ti dengan menggunakan teknologi deposisi dengan bantuan berkas ion untuk menumbuhkan film Si3N4 setebal 200nm, tidak hanya dapat menghambat munculnya retakan kelelahan pada permukaan material, tetapi juga secara signifikan mengurangi laju penyebaran retakan kelelahan, sehingga memperpanjang umur pakainya.
3. Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat mengubah sifat tegangan film dan struktur kristalnya berubah. Misalnya, pembuatan film Cr dengan penembakan Xe+ atau Ar+ 11,5 keV pada permukaan substrat, ditemukan bahwa penyesuaian suhu substrat, energi ion penembakan, ion dan atom untuk mencapai rasio parameter tertentu, dapat membuat tegangan berubah dari tegangan tarik menjadi tegangan tekan, dan struktur kristal film juga akan mengalami perubahan. Di bawah rasio kedatangan ion-ke-atom tertentu, deposisi dengan bantuan berkas ion memiliki orientasi selektif yang lebih baik daripada lapisan membran yang diendapkan dengan deposisi uap termal.
4. Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat meningkatkan ketahanan korosi dan ketahanan oksidasi membran. Karena kepadatan lapisan film yang dibantu deposisi berkas ion, peningkatan struktur antarmuka dasar film atau pembentukan keadaan amorf yang disebabkan oleh hilangnya batas butir antar partikel, yang kondusif untuk peningkatan ketahanan korosi material dan menahan oksidasi suhu tinggi.
5. Deposisi dengan bantuan berkas ion dapat mengubah sifat elektromagnetik film dan meningkatkan kinerja film tipis optik.
6. Deposisi berbantuan ion memungkinkan penyesuaian parameter yang tepat dan independen terkait dengan deposisi atom dan implantasi ion, serta memungkinkan pembentukan lapisan tipis beberapa mikrometer secara berurutan dengan komposisi yang konsisten pada energi penembakan rendah, sehingga berbagai film tipis dapat ditumbuhkan pada suhu ruangan, menghindari efek buruk pada material atau komponen presisi yang mungkin disebabkan oleh perlakuan pada suhu tinggi.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 24 Januari 2024