1. La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la membrana y el sustrato, y la capa de membrana es muy resistente. Los experimentos demuestran que la adhesión en la deposición asistida por haz de iones es varias veces mayor que en la deposición térmica de vapor, lo que se debe principalmente al efecto de limpieza del bombardeo iónico sobre la superficie, que forma una estructura interfacial con gradiente o una capa de transición híbrida en la interfaz de la base de la membrana, además de reducir la tensión en la membrana.
2. La deposición asistida por haz de iones puede mejorar las propiedades mecánicas de la película, prolongar la vida útil a la fatiga y es muy adecuada para la preparación de óxidos, carburos, BN cúbico, TiB2 y recubrimientos tipo diamante. Por ejemplo, en el acero resistente al calor 1Cr18Ni9Ti, el uso de la tecnología de deposición asistida por haz de iones para cultivar una película de Si3N4 de 200 nm no solo puede inhibir la aparición de grietas por fatiga en la superficie del material, sino que también reduce significativamente la velocidad de propagación de dichas grietas, lo que contribuye a prolongar su vida útil.
3. La deposición asistida por haz de iones puede modificar la naturaleza de la tensión en la película y su estructura cristalina. Por ejemplo, en la preparación de una película de Cr mediante bombardeo con iones Xe+ o Ar+ de 11,5 keV sobre la superficie del sustrato, se observó que el ajuste de la temperatura del sustrato, la energía de los iones de bombardeo y la proporción de iones y átomos para alcanzar los parámetros adecuados permite que la tensión pase de ser de tracción a compresión, lo que también produce cambios en la estructura cristalina de la película. Bajo una determinada proporción de llegada de iones a átomos, la deposición asistida por haz de iones presenta una orientación selectiva superior a la de la capa de membrana depositada mediante deposición térmica de vapor.
4. La deposición asistida por haz de iones puede mejorar la resistencia a la corrosión y a la oxidación de la membrana. Debido a la densidad de la capa de película depositada mediante haz de iones, la mejora de la estructura de la interfaz de la base de la película o la formación de un estado amorfo causada por la desaparición de los límites de grano entre las partículas, favorece la mejora de la resistencia a la corrosión del material y la resistencia a la oxidación a altas temperaturas.
5. La deposición asistida por haz de iones puede cambiar las propiedades electromagnéticas de la película y mejorar el rendimiento de las películas delgadas ópticas.
6. La deposición asistida por iones permite un ajuste preciso e independiente de los parámetros relacionados con la deposición atómica y la implantación iónica, y permite la generación sucesiva de recubrimientos de unos pocos micrómetros con una composición uniforme a bajas energías de bombardeo, de modo que se pueden cultivar diversas películas delgadas a temperatura ambiente, evitando los efectos adversos sobre los materiales o las piezas de precisión que pueden ser causados por tratarlos a temperaturas elevadas.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Fecha de publicación: 24 de enero de 2024