1. İyon ışını destekli kaplama teknolojisi, membran ile alt tabaka arasında güçlü yapışma özelliği gösterir; membran tabakası çok sağlamdır. Deneyler şunu göstermektedir: İyon ışını destekli kaplamanın yapışması, termal buhar kaplamasına göre birkaç ila yüzlerce kat daha fazladır. Bunun nedeni esas olarak iyon bombardımanının yüzey temizleme etkisidir; bu sayede membran taban arayüzünde kademeli bir arayüz yapısı veya hibrit geçiş tabakası oluşur ve membran üzerindeki gerilim azalır.
2. İyon ışını destekli kaplama, filmin mekanik özelliklerini iyileştirebilir, yorulma ömrünü uzatabilir ve oksitler, karbürler, kübik BN, TiB2 ve elmas benzeri kaplamaların hazırlanması için çok uygundur. Örneğin, 1Cr18Ni9Ti ısıya dayanıklı çelikte iyon ışını destekli kaplama teknolojisi kullanılarak 200 nm Si3N4 filmi büyütüldüğünde, malzemenin yüzeyinde yorulma çatlaklarının oluşmasını engellemekle kalmaz, aynı zamanda yorulma çatlaklarının yayılma hızını da önemli ölçüde azaltarak ömrünü uzatmada olumlu bir rol oynar.
3. İyon ışını destekli biriktirme, filmin gerilme doğasını ve kristal yapısını değiştirebilir. Örneğin, alt tabaka yüzeyine 11,5 keV Xe+ veya Ar+ bombardımanı ile Cr filmi hazırlanmasında, alt tabaka sıcaklığının, bombardıman iyon enerjisinin, iyon ve atom oranının parametrelerin ayarlanmasıyla gerilmenin çekme gerilmesinden sıkıştırma gerilmesine dönüştürülebileceği ve filmin kristal yapısının da değişebileceği bulunmuştur. Belirli bir iyon-atom oranı altında, iyon ışını destekli biriktirme, termal buhar biriktirme ile biriktirilen membran tabakasına göre daha iyi seçici yönlendirmeye sahiptir.
4. İyon ışını destekli kaplama, membranın korozyon direncini ve oksidasyon direncini artırabilir. Film tabakasının iyon ışını destekli kaplamasının yoğunluğu nedeniyle, film tabanı arayüz yapısının iyileştirilmesi veya parçacıklar arasındaki tane sınırlarının ortadan kalkmasıyla oluşan amorf durum, malzemenin korozyon direncini artırmaya ve yüksek sıcaklık oksidasyonuna karşı direnç göstermeye elverişlidir.
5. İyon ışını destekli kaplama, filmin elektromanyetik özelliklerini değiştirebilir ve optik ince filmlerin performansını iyileştirebilir.
6. İyon destekli biriktirme, atomik biriktirme ve iyon implantasyonu ile ilgili parametrelerin hassas ve bağımsız olarak ayarlanmasına olanak tanır ve düşük bombardıman enerjilerinde tutarlı bileşime sahip birkaç mikrometre kalınlığında kaplamaların ardışık olarak oluşturulmasına imkan verir; böylece çeşitli ince filmler oda sıcaklığında büyütülebilir ve yüksek sıcaklıklarda işlem görmenin malzemeler veya hassas parçalar üzerinde yaratabileceği olumsuz etkilerden kaçınılabilir.
Bu makale şu kuruluş tarafından yayınlanmıştır:vakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Yayın tarihi: 24 Ocak 2024