1. Технологія іонно-променевого осадження характеризується міцною адгезією між мембраною та підкладкою, завдяки чому мембранний шар дуже міцний. Експерименти показують, що адгезія при іонно-променевому осадженні в кілька разів або навіть у сотні разів перевищує адгезію при термічному осадженні з парової фази. Причина цього головним чином полягає в очищувальному ефекті іонного бомбардування поверхні, завдяки чому на межі розділу мембрани з основою утворюється градієнтна міжфазна структура або гібридний перехідний шар, що зменшує мембранне напруження.
2. Іонно-променеве осадження може покращити механічні властивості плівки, подовжити термін служби, що дуже підходить для отримання оксидних, карбідних, кубічних BN, TiB2 та алмазоподібних покриттів. Наприклад, використання технології іонно-променевого осадження для вирощування плівки Si3N4 товщиною 200 нм у жароміцній сталі 1Cr18Ni9Ti не тільки запобігає появі втомних тріщин на поверхні матеріалу, але й значно знижує швидкість поширення втомних тріщин, що відіграє важливу роль у подовженні терміну служби.
3. Осадження за допомогою іонного пучка може змінити характер напружень у плівці та її кристалічну структуру. Наприклад, під час бомбардування поверхні підкладки Xe+ або Ar+ з енергією 11,5 кеВ було виявлено, що регулювання температури підкладки, енергії іонів бомбардування, кількості іонів та атомів для досягнення певного співвідношення параметрів може призвести до зміни напруження від розтягу до стиску, що також призведе до змін кристалічної структури плівки. За певного співвідношення надходження іонів до атомів, осадження за допомогою іонного пучка має кращу селективну орієнтацію, ніж мембранний шар, осаджений методом термічного осадження з парової фази.
4. Осадження за допомогою іонного променя може підвищити корозійну стійкість та стійкість мембрани до окислення. Завдяки щільності плівкового шару, осадженого за допомогою іонного променя, покращується структура інтерфейсу основи плівки або утворюється аморфний стан, спричинений зникненням меж зерен між частинками, що сприяє підвищенню корозійної стійкості матеріалу та стійкості до окислення за високих температур.
5. Осадження за допомогою іонного променя може змінити електромагнітні властивості плівки та покращити характеристики оптичних тонких плівок.
6. Іонно-асистоване осадження дозволяє точно та незалежно регулювати параметри, пов'язані з атомним осадженням та іонною імплантацією, а також послідовно генерувати покриття розміром кілька мікрометрів з однаковим складом при низьких енергіях бомбардування, що дозволяє вирощувати різні тонкі плівки при кімнатній температурі, уникаючи негативного впливу на матеріали або прецизійні деталі, який може бути спричинений їх обробкою при підвищених температурах.
–Цю статтю опубліковановиробник вакуумних машин для покриттяГуандун Чженьхуа
Час публікації: 24 січня 2024 р.