Мембрана катламының механик үзлекләре ябышу, стресс, агрегат тыгызлыгы һ.б. тәэсир итә. Мембрана катламы материалы һәм процесс факторлары арасындагы бәйләнештән күренгәнчә, мембрана катламының механик көчен яхшыртырга теләсәк, без түбәндәге процесс параметрларына игътибар итергә тиеш:
(1) вакуум дәрәҗәсе. Фильм спектакленә вакуум бик ачык. Фильм катламының күпчелек күрсәткечләре вакуум дәрәҗәсенә бик бәйле. Гадәттә, вакуум дәрәҗәсе арта барган саен, фильмның агрегат тыгызлыгы арта, ныклык арта, кино структурасы яхшыра, химик состав чиста була, ләкин шул ук вакытта стресс та арта.
(2) Чокыр ставкасы. Чүпләү ставкасын яхшырту парга әйләнү темпын яхшырту өчен генә кулланылмый, ягъни парлану чыганагы температурасын якынайту өчен кулланыла ала, шулай ук парга әйләнү чыганагын арттыру өчен кулланыла ала, ләкин температураның температурасын күтәрү өчен парлану чыганагын куллануның кимчелекләре бар: мембрана катламы стрессын зур итү; кино ясаучы газны таркату җиңел. Шуңа күрә кайвакыт парга әйләнү чыганагын арттыру, парлану чыганагы температурасын яхшырту караганда яхшырак.
3) субстрат температурасы. Субстрат температурасын күтәрү калган газ молекулаларының субстрат өслегендә adsorbsion өчен уңайлы, субстратны һәм бәйләнгән молекулалар арасындагы бәйләнеш көчен арттыру: шул ук вакытта физик adsorptionның химик adsorptionга әверелүенә ярдәм итәчәк, молекулалар катламы структурасы тыгыз булсын өчен. Мәсәлән, Mg, мембрана, 250 ~ 300 to кадәр субстрат җылыту эчке стрессны киметергә, агрегат тыгызлыгын яхшыртырга, мембрана катламының катылыгын арттырырга мөмкин: субстрат җылыту 120 ~ 150 ℃ әзерләнгән Zr03-Si02, күпкатлы мембрана, аның механик көче күпкә артты, ләкин субстрат температурасы артык югары булса, мембрана катламы начарлануга китерәчәк.
(4) Ион бомбардирасы. Ион бомбардирасы югары кушылучан өслекләр, өслек тупаслыгы, оксидлашу һәм агрегат тыгызлыгына тәэсир итә. Каплау алдыннан бомбардировщик өслекне чистартырга һәм ябышуны арттырырга мөмкин; капланганнан соң бомбардировщик кино катламының агрегат тыгызлыгын һ.б. яхшырта ала, шулай итеп механик көчен һәм катылыгын арттыра ала.
(5) Субстрат чистарту. Субстратны чистарту ысулы урынлы яки чиста түгел, субстрат калдыклары яки чистарту агентында, аннары яңа пычрануга китерә, төрле кушылу шартларында һәм ябышуда, структур үзенчәлекләрнең беренче катламына һәм оптик калынлыкка тәэсир итә, шулай ук кино катламының субстраттан чыгуын җиңеләйтә, шулай итеп кино катламының үзенчәлекләрен үзгәртә.
IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа
Пост вакыты: Май-04-2024