Ang teknolohiya ng vacuum coating ay isang teknolohiya na nagdedeposito ng mga manipis na materyales sa pelikula sa ibabaw ng mga substrate na materyales sa ilalim ng vacuum na kapaligiran, na malawakang ginagamit sa electronics, optika, packaging, dekorasyon at iba pang larangan. Ang mga kagamitan sa vacuum coating ay maaaring nahahati sa mga sumusunod na uri:
1. Thermal evaporation coating equipment: ito ang pinakatradisyunal na paraan ng vacuum coating, sa pamamagitan ng pag-init ng manipis na film material sa evaporation boat, ang materyal ay evaporate at idineposito sa ibabaw ng substrate material.
2. Sputtering coating equipment: gamit ang mga high-energy ions upang matamaan ang ibabaw ng target na materyal, ang target na mga atomo ng materyal ay nabubulok at idineposito sa materyal na substrate. Ang Magnetron sputtering ay nakakakuha ng mas pare-pareho at mas malakas na pagdirikit ng pelikula, na angkop para sa mass production.
3.Ion beam deposition equipment: Ion beams ay ginagamit upang magdeposito ng manipis na mga materyales sa pelikula papunta sa substrate. Ang pamamaraang ito ay maaaring makakuha ng napaka-unipormeng mga pelikula at angkop para sa mga okasyon na may mataas na mga kinakailangan sa katumpakan, ngunit ang gastos ng kagamitan ay mataas.
4. Chemical Vapor Deposition (CVD) Kagamitan: Bumubuo ng mga manipis na pelikula sa ibabaw ng materyal na substrate sa pamamagitan ng isang kemikal na reaksyon. Ang pamamaraang ito ay maaaring maghanda ng mataas na kalidad, multi-species na mga pelikula, ngunit ang kagamitan ay kumplikado at magastos.
5. Molecular Beam Epitaxy (MBE) equipment: Ito ay isang paraan ng pagkontrol sa paglaki ng mga manipis na pelikula sa atomic level at pangunahing ginagamit para sa paghahanda ng mga ultra-thin na layer at multilayer na istruktura para sa semiconductor at nanotechnology na mga aplikasyon.
6. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) na kagamitan: Ito ay isang pamamaraan na gumagamit ng plasma upang pahusayin ang pagdeposito ng mga manipis na pelikula sa pamamagitan ng isang kemikal na reaksyon, na nagpapahintulot sa mabilis na pagbuo ng mga manipis na pelikula sa mas mababang temperatura.
7. Pulsed Laser Deposition (PLD) na mga device: Gumagamit ang mga ito ng mga high-energy laser pulse upang matamaan ang isang target, mag-evaporate ng materyal mula sa target na ibabaw at ideposito ito sa isang substrate, at angkop para sa pagpapalaki ng mga de-kalidad at kumplikadong oxide film.
Ang bawat isa sa mga device na ito ay may sariling mga katangian sa disenyo at pagpapatakbo at angkop para sa iba't ibang mga pang-industriya na aplikasyon at mga lugar ng pananaliksik. Sa pag-unlad ng teknolohiya, sumusulong din ang teknolohiya ng vacuum coating, at umuusbong din ang mga bagong kagamitan sa vacuum coating.
–Ang artikulong ito ay inilabas ngvacuum coating machinetagagawa Guangdong Zhenhua
Oras ng post: Hun-12-2024