Mga katangian ng kagamitan sa patong ng CVD

Ang teknolohiya ng patong na CVD ay may mga sumusunod na katangian:

1. Ang proseso ng operasyon ng kagamitang CVD ay medyo simple at nababaluktot, at maaari itong maghanda ng mga single o composite film at alloy film na may iba't ibang proporsyon;

2. Ang CVD coating ay may malawak na hanay ng mga aplikasyon, at maaaring gamitin upang maghanda ng iba't ibang metal o metal film coatings;

3. Mataas na kahusayan sa produksyon dahil sa mga rate ng deposisyon mula ilang microns hanggang daan-daang microns kada minuto;

4. Kung ikukumpara sa pamamaraang PVD, ang CVD ay may mas mahusay na pagganap ng diffraction at angkop para sa pagpapatong ng mga substrate na may mga kumplikadong hugis, tulad ng mga uka, mga butas na pinahiran, at maging ang mga istrukturang blind hole. Ang patong ay maaaring i-plate sa isang film na may mahusay na compactness. Dahil sa mataas na temperatura habang proseso ng pagbuo ng film, at ang malakas na pagdikit sa interface ng film substrate, ang layer ng film ay napakatatag.

5. Ang pinsalang dulot ng radiation ay medyo mababa at maaaring isama sa mga proseso ng MOS integrated circuit.

——Ang artikulong ito ay inilathala ng Guangdong Zhenhua, isangtagagawa ng vacuum coating machine