CVD жабын технологиясы келесі сипаттамаларға ие:
1. CVD жабдығының технологиялық жұмысы салыстырмалы түрде қарапайым және икемді, және ол әртүрлі пропорциядағы бір немесе құрама пленкалар мен қорытпа пленкаларын дайындай алады;
2. CVD жабынының қолданылу аясы кең және оны әртүрлі металл немесе металл пленкалы жабындарды дайындау үшін пайдалануға болады;
3. Минутына бірнеше микроннан жүздеген микронға дейінгі тұндыру жылдамдығына байланысты жоғары өндірістік тиімділік;
4. PVD әдісімен салыстырғанда, CVD дифракциялық өнімділігі жақсырақ және ойықтар, жабынды тесіктер және тіпті соқыр тесікті құрылымдар сияқты күрделі пішінді негіздерді жабуға өте қолайлы. Жабын жақсы тығыздықтағы пленкаға жабыстырылуы мүмкін. Пленканы қалыптастыру процесіндегі жоғары температураға және пленка негізінің бетіне күшті адгезияға байланысты пленка қабаты өте берік.
5. Радиациядан келтірілген залал салыстырмалы түрде төмен және MOS интегралды схема процестерімен біріктірілуі мүмкін.
——Бұл мақала Гуандун Чжэньхуа баспасынан жарияланды,вакуумдық жабын машинасын өндіруші
Жарияланған уақыты: 2023 жылғы 29 наурыз