CVD పూత సాంకేతికత క్రింది లక్షణాలను కలిగి ఉంది:
1. CVD పరికరాల ప్రక్రియ ఆపరేషన్ సాపేక్షంగా సరళమైనది మరియు అనువైనది, మరియు ఇది వివిధ నిష్పత్తులతో ఒకే లేదా మిశ్రమ చలనచిత్రాలు మరియు మిశ్రమం చిత్రాలను సిద్ధం చేయగలదు;
2. CVD పూత విస్తృత శ్రేణి అనువర్తనాలను కలిగి ఉంది మరియు వివిధ మెటల్ లేదా మెటల్ ఫిల్మ్ పూతలను సిద్ధం చేయడానికి ఉపయోగించవచ్చు;
3. నిమిషానికి కొన్ని మైక్రాన్ల నుండి వందల మైక్రాన్ల వరకు నిక్షేపణ రేట్ల కారణంగా అధిక ఉత్పత్తి సామర్థ్యం;
4. PVD పద్ధతితో పోలిస్తే, CVD మెరుగైన డిఫ్రాక్షన్ పనితీరును కలిగి ఉంది మరియు పొడవైన కమ్మీలు, పూతతో కూడిన రంధ్రాలు మరియు బ్లైండ్ హోల్ స్ట్రక్చర్‌ల వంటి సంక్లిష్ట ఆకృతులతో పూత పూయడానికి చాలా అనుకూలంగా ఉంటుంది.పూత మంచి కాంపాక్ట్‌నెస్‌తో ఫిల్మ్‌గా పూయబడుతుంది.ఫిల్మ్ ఫార్మింగ్ ప్రక్రియలో అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు ఫిల్మ్ సబ్‌స్ట్రేట్ ఇంటర్‌ఫేస్‌పై బలమైన సంశ్లేషణ కారణంగా, ఫిల్మ్ లేయర్ చాలా దృఢంగా ఉంటుంది
5. రేడియేషన్ వల్ల కలిగే నష్టం సాపేక్షంగా తక్కువగా ఉంటుంది మరియు MOS ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ ప్రక్రియలతో అనుసంధానించబడుతుంది.
——ఈ కథనాన్ని గ్వాంగ్‌డాంగ్ జెన్‌హువా ప్రచురించారు, aవాక్యూమ్ పూత యంత్ర తయారీదారు
పోస్ట్ సమయం: మార్చి-29-2023