CVD 코팅 기술은 다음과 같은 특징을 가지고 있습니다.
1. CVD 장비의 공정 작동은 비교적 간단하고 유연하며, 단일막, 복합막 및 다양한 비율의 합금막을 제조할 수 있습니다.
2. CVD 코팅은 적용 범위가 넓으며, 다양한 금속 또는 금속 박막 코팅을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.
3. 분당 수 마이크론에서 수백 마이크론에 이르는 증착 속도로 인해 생산 효율이 매우 높습니다.
4. PVD 방식과 비교했을 때, CVD 방식은 회절 성능이 우수하며 홈, 코팅된 구멍, 심지어 막힌 구멍 구조와 같은 복잡한 형상의 기판 코팅에 매우 적합합니다. 코팅은 치밀한 박막 형태로 형성될 수 있습니다. 박막 형성 공정 중 고온과 박막-기판 계면의 강력한 접착력으로 인해 박막층이 매우 견고합니다.
5. 방사선으로 인한 손상은 비교적 적으며 MOS 집적 회로 공정에 통합될 수 있습니다.
이 기사는 광둥진화에서 발행되었습니다.진공 코팅기 제조업체
게시 시간: 2023년 3월 29일