CVD কোটিং প্রযুক্তির নিম্নলিখিত বৈশিষ্ট্য রয়েছে:
১. সিভিডি যন্ত্রের কার্যপ্রণালী তুলনামূলকভাবে সহজ ও নমনীয়, এবং এর মাধ্যমে বিভিন্ন অনুপাতে একক বা যৌগিক ফিল্ম এবং সংকর ফিল্ম প্রস্তুত করা যায়;
২. সিভিডি কোটিং-এর প্রয়োগক্ষেত্র ব্যাপক, এবং এটি ব্যবহার করে বিভিন্ন ধাতু বা ধাতব ফিল্মের কোটিং প্রস্তুত করা যায়;
৩. প্রতি মিনিটে কয়েক মাইক্রন থেকে কয়েকশ মাইক্রন পর্যন্ত জমা হওয়ার হারের কারণে উচ্চ উৎপাদন দক্ষতা;
৪. PVD পদ্ধতির তুলনায়, CVD-এর ডিফ্র্যাকশন পারফরম্যান্স ভালো এবং এটি জটিল আকৃতির সাবস্ট্রেটে কোটিং করার জন্য খুব উপযুক্ত, যেমন খাঁজ, কোটিং করা গর্ত, এমনকি ব্লাইন্ড হোল কাঠামো। কোটিংটিকে ভালো কম্প্যাক্টনেস সহ একটি ফিল্মে প্লেট করা যায়। ফিল্ম তৈরির প্রক্রিয়ার সময় উচ্চ তাপমাত্রা এবং ফিল্ম-সাবস্ট্রেট ইন্টারফেসে শক্তিশালী আসঞ্জনের কারণে, ফিল্ম স্তরটি খুব দৃঢ় হয়।
৫. বিকিরণের কারণে সৃষ্ট ক্ষতি তুলনামূলকভাবে কম এবং এটিকে MOS ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট প্রক্রিয়ার সাথে একীভূত করা যায়।
এই নিবন্ধটি গুয়াংডং ঝেনহুয়া কর্তৃক প্রকাশিত।ভ্যাকুয়াম কোটিং মেশিন প্রস্তুতকারক
পোস্ট করার সময়: ২৯ মার্চ, ২০২৩