வெற்றிட மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு உபகரணங்களின் தொழில்நுட்ப அம்சங்கள்

வினைத்திறன் படிவு பூச்சுகளுக்கு வெற்றிட மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் குறிப்பாக பொருத்தமானது.உண்மையில், இந்த செயல்முறை எந்த ஆக்சைடு, கார்பைடு மற்றும் நைட்ரைடு பொருட்களின் மெல்லிய படலங்களை டெபாசிட் செய்யலாம்.கூடுதலாக, ஆப்டிகல் டிசைன்கள், கலர் ஃபிலிம்கள், உடைகள்-எதிர்ப்பு பூச்சுகள், நானோ-லேமினேட்கள், சூப்பர்லட்டீஸ் பூச்சுகள், இன்சுலேடிங் பிலிம்கள் போன்ற பல அடுக்கு பட கட்டமைப்புகளின் படிவத்திற்கும் இந்த செயல்முறை மிகவும் பொருத்தமானது. 1970 ஆம் ஆண்டிலேயே, உயர்தர ஒளியியல் படம் பல்வேறு ஆப்டிகல் ஃபிலிம் லேயர் பொருட்களுக்கு படிவு எடுத்துக்காட்டுகள் உருவாக்கப்பட்டுள்ளன.இந்த பொருட்களில் வெளிப்படையான கடத்தும் பொருட்கள், குறைக்கடத்திகள், பாலிமர்கள், ஆக்சைடுகள், கார்பைடுகள் மற்றும் நைட்ரைடுகள் ஆகியவை அடங்கும், அதே நேரத்தில் ஃவுளூரைடுகள் ஆவியாதல் பூச்சு போன்ற செயல்முறைகளில் பயன்படுத்தப்படுகின்றன.

மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் செயல்முறையின் முக்கிய நன்மை என்னவென்றால், இந்த பொருட்களின் அடுக்குகளை டெபாசிட் செய்ய எதிர்வினை அல்லது எதிர்வினையற்ற பூச்சு செயல்முறைகளைப் பயன்படுத்துகிறது மற்றும் அடுக்கு கலவை, படத் தடிமன், பட தடிமன் சீரான தன்மை மற்றும் அடுக்கின் இயந்திர பண்புகள் ஆகியவற்றை நன்கு கட்டுப்படுத்துகிறது.செயல்முறை பின்வரும் பண்புகளைக் கொண்டுள்ளது.

1, பெரிய படிவு விகிதம்.அதிவேக மேக்னட்ரான் மின்முனைகளைப் பயன்படுத்துவதால், ஒரு பெரிய அயனி ஓட்டத்தைப் பெறலாம், இந்த பூச்சு செயல்முறையின் படிவு விகிதம் மற்றும் ஸ்பட்டரிங் வீதத்தை திறம்பட மேம்படுத்துகிறது.மற்ற sputtering பூச்சு செயல்முறைகளுடன் ஒப்பிடும்போது, ​​magnetron sputtering அதிக திறன் மற்றும் அதிக மகசூல் கொண்டது, மேலும் பல்வேறு தொழில்துறை உற்பத்தியில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.

2, அதிக ஆற்றல் திறன்.Magnetron sputtering இலக்கு பொதுவாக 200V-1000V வரம்பிற்குள் உள்ள மின்னழுத்தத்தைத் தேர்ந்தெடுக்கிறது, பொதுவாக 600V ஆகும், ஏனெனில் 600V இன் மின்னழுத்தம் ஆற்றல் திறனின் மிக உயர்ந்த வரம்பிற்குள் உள்ளது.

3. குறைந்த sputtering ஆற்றல்.மேக்னட்ரான் இலக்கு மின்னழுத்தம் குறைவாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது, மேலும் காந்தப்புலம் பிளாஸ்மாவை கேத்தோடிற்கு அருகில் கட்டுப்படுத்துகிறது, இது அதிக ஆற்றல் சார்ஜ் செய்யப்பட்ட துகள்களை அடி மூலக்கூறு மீது செலுத்துவதைத் தடுக்கிறது.

4, குறைந்த அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை.வெளியேற்றத்தின் போது உருவாகும் எலக்ட்ரான்களை வழிநடத்த அனோட் பயன்படுத்தப்படலாம், அடி மூலக்கூறு ஆதரவு தேவையில்லை, இது அடி மூலக்கூறின் எலக்ட்ரான் குண்டுவீச்சை திறம்பட குறைக்கும்.இதனால் அடி மூலக்கூறு வெப்பநிலை குறைவாக உள்ளது, இது அதிக வெப்பநிலை பூச்சுக்கு மிகவும் எதிர்ப்பு இல்லாத சில பிளாஸ்டிக் அடி மூலக்கூறுகளுக்கு மிகவும் சிறந்தது.

5, Magnetron sputtering இலக்கு மேற்பரப்பு பொறித்தல் சீரானதாக இல்லை.மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் இலக்கு மேற்பரப்பு பொறித்தல் சீரற்றது இலக்கின் சீரற்ற காந்தப்புலத்தால் ஏற்படுகிறது.இலக்கு பொறித்தல் வீதத்தின் இருப்பிடம் பெரியதாக உள்ளது, இதனால் இலக்கின் பயனுள்ள பயன்பாட்டு விகிதம் குறைவாக உள்ளது (20-30% பயன்பாட்டு விகிதம் மட்டுமே).எனவே, இலக்கு பயன்பாட்டை மேம்படுத்த, காந்தப்புல விநியோகம் சில வழிமுறைகளால் மாற்றப்பட வேண்டும் அல்லது கேத்தோடில் நகரும் காந்தங்களின் பயன்பாடு இலக்கு பயன்பாட்டை மேம்படுத்தலாம்.

6, கூட்டு இலக்கு.கலப்பு இலக்கு பூச்சு அலாய் திரைப்படத்தை உருவாக்க முடியும்.தற்போது, ​​கலப்பு மேக்னட்ரான் இலக்கு ஸ்பட்டரிங் செயல்முறையின் பயன்பாடு Ta-Ti அலாய், (Tb-Dy)-Fe மற்றும் Gb-Co அலாய் ஃபிலிம் மீது வெற்றிகரமாக பூசப்பட்டுள்ளது.கூட்டு இலக்கு அமைப்பு முறையே சுற்றுப் பதிக்கப்பட்ட இலக்கு, சதுரம் பதிக்கப்பட்ட இலக்கு, சிறிய சதுரம் பதிக்கப்பட்ட இலக்கு மற்றும் துறை பதிக்கப்பட்ட இலக்கு என நான்கு வகைகளைக் கொண்டுள்ளது.துறை பொறிக்கப்பட்ட இலக்கு கட்டமைப்பைப் பயன்படுத்துவது சிறந்தது.

7. பரந்த அளவிலான பயன்பாடுகள்.Magnetron sputtering செயல்முறை பல கூறுகளை டெபாசிட் செய்யலாம், பொதுவானவை: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO போன்றவை.

மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் என்பது உயர்தரத் திரைப்படங்களைப் பெறுவதற்கு மிகவும் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படும் பூச்சு செயல்முறைகளில் ஒன்றாகும்.ஒரு புதிய கேத்தோடுடன், அதிக இலக்கு பயன்பாடு மற்றும் அதிக படிவு விகிதம் உள்ளது.குவாங்டாங் ஜென்ஹுவா தொழில்நுட்பம் வெற்றிட மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் பூச்சு செயல்முறை இப்போது பெரிய பரப்பு அடி மூலக்கூறுகளின் பூச்சுகளில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது.இந்த செயல்முறையானது ஒற்றை-அடுக்கு படப் படிவத்திற்கு மட்டுமல்ல, பல அடுக்கு பட பூச்சுக்கும் பயன்படுத்தப்படுகிறது, கூடுதலாக, பேக்கேஜிங் ஃபிலிம், ஆப்டிகல் ஃபிலிம், லேமினேஷன் மற்றும் பிற ஃபிலிம் பூச்சுக்கான ரோல் டு ரோல் செயல்முறையிலும் இது பயன்படுத்தப்படுகிறது.