E matuā talafeagai le vacuum magnetron sputtering mo le reactive deposition coatings. O le mea moni, e mafai e lenei faiga ona fa'aputuina ni ata manifinifi o so'o se oxide, carbide, ma nitride materials. E le gata i lea, e matuā talafeagai fo'i le faiga mo le fa'aputuina o fausaga ata e tele vaega, e aofia ai mamanu opitika, ata lanu, ufiufi e tete'e i le ofuina, nano-laminates, ufiufi superlattice, ata insulating, ma isi. I le amataga o le 1970, na atia'e ai fa'ata'ita'iga o le fa'aputuina o ata opitika maualuga mo le tele o mea o le optical film layer. O nei mea e aofia ai mea e fa'afoe ai le eletise, semiconductors, polymers, oxides, carbides, ma nitrides, ae o fluorides e fa'aaogaina i faiga e pei o le evaporative coating.
O le tulaga lelei autū o le faiga o le magnetron sputtering o le faʻaaogaina lea o faiga o le ufiufi e tali atu ai pe lē tali atu ai foʻi e faʻaputu ai vaega o nei mea ma pulea lelei ai le tuufaatasiga o vaega, le mafiafia o le ata tifaga, le tutusa o le mafiafia o le ata tifaga ma meatotino faʻainisinia o le vaega. O lenei faiga e iai ona uiga e pei ona taua i lalo.
1, Tele le fua faatatau o le teuina. Ona o le faʻaaogaina o eletise magnetron e maualuga le saoasaoa, e mafai ona maua ai se tafe tele o ion, ma faʻaleleia atili ai le fua faatatau o le teuina ma le fua faatatau o le sputtering o lenei faiga ufiufi. Pe a faʻatusatusa i isi faiga ufiufi sputtering, o le magnetron sputtering e maualuga le gafatia ma le maualuga o le fua faatatau, ma e lautele lona faʻaaogaina i le tele o gaosiga faʻapisinisi.
2, lelei tele o le eletise. O le fa'aaogaina o le Magnetron sputtering target e masani ona filifilia le voltage i totonu o le va o le 200V-1000V, e masani lava o le 600V, aua o le voltage o le 600V e na'o totonu o le va o le sili ona maualuga o le lelei o le eletise.
3. Malosiaga o le sputtering maualalo. E fa'aogaina maualalo le voltage o le magnetron target, ma e fa'atapula'aina e le magnetic field le plasma e lata ane i le cathode, lea e taofia ai vaega e maualuga le malosi mai le oso i luga o le substrate.
4. Vevela maualalo o le substrate. E mafai ona fa'aoga le anode e ta'ita'i ese ai eletise na gaosia i le taimi o le fa'asa'olotoina, e le mana'omia le lagolago o le substrate e fa'amae'a ai, lea e mafai ona fa'aitiitia lelei ai le osofa'iga a le eletise i le substrate. O lea la, e maualalo le vevela o le substrate, lea e matua'i fetaui lelei mo nisi o substrates palasitika e le o tete'e tele i le vevela maualuga.
5, e le tutusa le valiina o le luga o le sini o le Magnetron sputtering. O le le tutusa o le valiina o le luga o le sini o le Magnetron sputtering e mafua mai i le le tutusa o le fanua maneta o le sini. O le tulaga o le fua faatatau o le valiina o le sini e tele atu, o lea e maualalo ai le fua faatatau o le faaaogaina lelei o le sini (na o le 20-30% le fua faatatau o le faaaogaina). O le mea lea, ina ia faaleleia atili ai le faaaogaina o le sini, e manaomia ona suia le tufatufaina atu o le fanua maneta i nisi auala, pe o le faaaogaina o maneta e gaoioi i le cathode e mafai foi ona faaleleia atili ai le faaaogaina o le sini.
6. Fa'amoemoega tu'ufa'atasi. E mafai ona faia se ata tifaga u'amea ufiufi fa'atasi. I le taimi nei, o le fa'aaogaina o le faiga o le fa'apipi'iina o le magnetron target sputtering ua manuia le ufiufiina o le Ta-Ti alloy, (Tb-Dy)-Fe ma le ata tifaga u'amea Gb-Co. O le fausaga o le fa'amoemoega tu'ufa'atasi e fa ituaiga, o le fa'amoemoega lapotopoto, fa'amoemoega sikuea, fa'amoemoega sikuea la'ititi ma le fa'amoemoega vaega. E sili atu le fa'aaogaina o le fausaga o le fa'amoemoega vaega.
7. Tele fa'aoga eseese. E mafai e le faiga o le Magnetron sputtering ona fa'aputuina le tele o elemene, o elemene masani e pei o: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, ma isi.
O le Magnetron sputtering o se tasi o faiga ufiufi e sili ona faʻaaogaina lautele e maua ai ni ata tifaga maualuga le tulaga. Faatasi ai ma se cathode fou, e maualuga lona faʻaaogaina i le sini ma maualuga le fua faatatau o le teuina. O le faiga ufiufi o le Guangdong Zhenhua Technology vacuum magnetron sputtering ua faʻaaogaina lautele nei i le ufiufiina o substrates tetele. O le faiga e le gata ina faʻaaogaina mo le teuina o ata tifaga e tasi le vaega, ae faʻapea foi mo le ufiufiina o ata tifaga e tele vaega, e le gata i lea, e faʻaaogaina foi i le faiga roll to roll mo le afifiina o ata tifaga, ata tifaga opitika, lamination ma isi ufiufi ata tifaga.
Taimi na lafoina ai: Nov-07-2022