1. Ion beam fesoasoani deposition tekinolosi o loʻo faʻaalia i le pipii malosi i le va o le membrane ma le substrate, o le membrane layer e malosi tele. O faʻataʻitaʻiga e faʻaalia ai: o le faʻapipiʻiina o le faʻapipiʻi fesoasoani i le ion nai lo le faʻapipiʻiina o le ausa vevela na faʻateleina i le tele o taimi i le fiaselau taimi, o le mafuaʻaga e mafua ona o le osofaʻi o le ion i luga o le faʻamamaina o le aafiaga, ina ia faʻapipiʻi ai le faʻavae o le membrane e fausia ai se faʻagasologa o fesoʻotaʻiga, poʻo le faʻaogaina o le fesuiaiga o le paʻu, faʻapea foʻi ma le faʻaitiitia o le mamafa o le membrane.
2. Ion beam assisted deposition e mafai ona faʻaleleia mea faʻainisinia o le ata, faʻalauteleina le ola vaivai, e fetaui lelei mo le saunia o oxides, carbide, cubic BN, TiB2, ma faʻapipiʻi taimane. Mo se faʻataʻitaʻiga, i le 1Cr18Ni9Ti uʻamea vevela i luga o le faʻaogaina o tekinolosi faʻapipiʻi fesoasoani ion-beam e tupu ai le 200nm Si3N4 ata tifaga, e le gata e mafai ona taofia le tulaʻi mai o le vaivai vaivai i luga o le mea, ae faʻaitiitia ai foi le fua o le faʻasalalauina o le vaivai, e faʻalautele ai lona olaga o loʻo i ai se sao lelei.
3. Ion beam fesoasoani deposition e mafai ona suia le natura popole o le ata ma lona fausaga tioata suiga. Mo se faʻataʻitaʻiga, o le sauniuniga o le ata Cr ma le 11.5keV Xe + poʻo le Ar + poʻo o le substrate surface, na maua ai o le fetuunaiga o le vevela substrate, malosi o le malosi o le pomu, ion ma atoms e oʻo atu i le fua faatatau o tapulaʻa, e mafai ona faia le faʻalavelave mai le faʻalavelave faʻalavelave i le faʻamalosi faʻamalosi, o le fausaga tioata o le ata tifaga o le a maua ai foi suiga. I lalo o se fua faatatau taunuu mai ion-to-atom, o le ion beam fesoasoani deposition e sili atu ona filifilia orientation nai lo le membrane layer teuina e le vevela vevela.
4.Ion beam fesoasoani deposition e mafai ona faʻaleleia ai le faʻamaʻiina ma le faʻamaʻiina o le membrane. Ona o le mamafa o le ion beam-fesoasoani deposition o le ata tifaga, o le ata tifaga faavae fausaga faaleleia fausaga po o le faavaeina o le tulaga amorphous mafua mai i le mou atu o le saito tuaoi i le va o vaega, lea e fesoasoani i le faaleleia o le corrosion teteʻe o mea ma tetee i le oxidation o le vevela maualuga.
5. Ion beam assisted deposition e mafai ona suia ai le eletise eletise o le ata ma faʻaleleia le faʻatinoga o ata manifinifi mata.
6. Ion-fesoasoani Deposition e mafai ai le saʻo ma le tutoatasi fetuunaiga o tapulaʻa e fesoʻotaʻi ma le atomic deposition ma ion implantation, ma mafai ai mo le tupulaga sosoo o coatings o ni nai micrometers i le tuufaatasiga faifaipea i le malosi pomu maualalo, ina ia mafai ona tupu aʻe ata manifinifi eseese i le vevela o le potu, aloese mai aafiaga leaga i mea po o vaega saʻo togafitiga e ono mafua mai i le maualuga o le vevela.
–O lenei tusiga ua tatalaina emasini fa'apipi'i gaogao gaosimeaGuangdong Zhenhua
Taimi meli: Ian-24-2024