O le tekonolosi faʻapipiʻi CVD e iai uiga nei:
1. O le faʻagasologa o le faʻaogaina o masini CVD e faigofie tele ma fetuutuunai, ma e mafai ona saunia ata tifaga tasi pe tuʻufaʻatasia ma ata faʻapipiʻi faʻatasi ma vaega eseese;
2. O le faʻapipiʻiina o le CVD o loʻo i ai le tele o faʻaoga, ma e mafai ona faʻaaogaina e saunia ai le uʻamea eseese poʻo le uʻamea ata tifaga;
3. maualuga le gaosiga lelei ona o le teuina o fua faatatau e amata mai i nai microns i le selau microns i le minute;
4. Faʻatusatusa i le auala PVD, o le CVD e sili atu le faʻaogaina o le faʻaogaina ma e fetaui lelei mo le faʻapipiʻiina o substrates ma foliga faʻalavelave, e pei o vaʻa, pu faʻapipiʻi, ma e oʻo lava i fausaga pu tauaso. O le ufiufi e mafai ona faʻapipiʻiina i totonu o se ata tifaga ma le faʻapipiʻi lelei. Ona o le maualuga o le vevela i le taimi o le faiga o ata tifaga, ma le pipii malosi i luga o le ata tifaga substrate interface, o le ata tifaga e matua mausali.
5. O le faʻaleagaina e mafua mai i le faʻavevela e laʻititi laʻititi ma e mafai ona tuʻufaʻatasia ma le MOS integrated circuit process.
——O lenei tusiga ua lomia e Guangdong Zhenhua, amasini fa'apipi'i gaogao gaosimea
Taimi meli: Mati-29-2023