Vákuové magnetrónové naprašovanie je obzvlášť vhodné na reaktívne nanášanie povlakov. V skutočnosti tento proces dokáže nanášať tenké vrstvy akýchkoľvek oxidových, karbidových a nitridových materiálov. Okrem toho je proces obzvlášť vhodný aj na nanášanie viacvrstvových filmových štruktúr vrátane optických vzorov, farebných vrstiev, povlakov odolných voči opotrebovaniu, nanolaminátov, supermriežkových povlakov, izolačných vrstiev atď. Už v roku 1970 boli vyvinuté príklady vysokokvalitného nanášania optických vrstiev pre rôzne materiály optických vrstiev. Medzi tieto materiály patria priehľadné vodivé materiály, polovodiče, polyméry, oxidy, karbidy a nitridy, zatiaľ čo fluoridy sa používajú v procesoch, ako je odparovanie.
Hlavnou výhodou procesu magnetrónového naprašovania je použitie reaktívnych alebo nereaktívnych procesov nanášania vrstiev týchto materiálov a dobrá kontrola zloženia vrstvy, hrúbky filmu, rovnomernosti hrúbky filmu a mechanických vlastností vrstvy. Proces má nasledujúce charakteristiky.
1. Vysoká rýchlosť nanášania. Vďaka použitiu vysokorýchlostných magnetrónových elektród je možné dosiahnuť veľký tok iónov, čo efektívne zlepšuje rýchlosť nanášania a naprašovania pri tomto procese nanášania povlaku. V porovnaní s inými procesmi naprašovania má magnetrónové naprašovanie vysokú kapacitu a vysoký výťažok a je široko používané v rôznych priemyselných výrobách.
2. Vysoká energetická účinnosť. Napätie pre magnetrónovú naprašovaciu technológiu sa zvyčajne volí v rozsahu 200 V – 1 000 V, zvyčajne 600 V, pretože napätie 600 V je práve v najvyššom efektívnom rozsahu energetickej účinnosti.
3. Nízka energia rozprašovania. Napätie na magnetrónovom terči je privádzané nízke a magnetické pole obmedzuje plazmu v blízkosti katódy, čo zabraňuje uvoľňovaniu nabitých častíc s vyššou energiou na substrát.
4. Nízka teplota substrátu. Anóda sa môže použiť na odvádzanie elektrónov generovaných počas výboja, bez nutnosti kompletného podopretia substrátu, čo môže účinne znížiť bombardovanie substrátu elektrónmi. Teplota substrátu je tak nízka, čo je veľmi ideálne pre niektoré plastové substráty, ktoré nie sú veľmi odolné voči vysokoteplotnému náteru.
5, Leptanie povrchu terča magnetrónovým naprašovaním nie je rovnomerné. Nerovnomerné leptanie povrchu terča magnetrónovým naprašovaním je spôsobené nerovnomerným magnetickým poľom terča. Rýchlosť leptania terča je väčšia, takže efektívna miera využitia terča je nízka (miera využitia iba 20 – 30 %). Preto na zlepšenie využitia terča je potrebné určitým spôsobom zmeniť rozloženie magnetického poľa alebo použiť magnety pohybujúce sa v katóde, čo môže tiež zlepšiť využitie terča.
6. Kompozitný terč. Možno vyrobiť kompozitný terč nanesený na zliatinovú vrstvu. V súčasnosti sa úspešne používa proces magnetrónového naprašovania kompozitného terča na zliatiny Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe a Gb-Co. Štruktúra kompozitného terča má štyri druhy: okrúhly intarzovaný terč, štvorcový intarzovaný terč, malý štvorcový intarzovaný terč a sektorový intarzovaný terč. Použitie sektorovej intarzovanej štruktúry terča je lepšie.
7. Široká škála aplikácií. Magnetrónovým naprašovaním je možné usadiť mnoho prvkov, medzi bežné patria: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO atď.
Magnetrónové naprašovanie je jedným z najpoužívanejších procesov nanášania povlakov na získanie vysoko kvalitných filmov. Vďaka novej katóde má vysoké využitie terča a vysokú rýchlosť nanášania. Vákuový magnetrónový naprašovací proces spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology sa v súčasnosti široko používa na nanášanie povlakov na veľkoplošné substráty. Tento proces sa používa nielen na nanášanie jednovrstvových filmov, ale aj na viacvrstvové nanášanie filmov a okrem toho sa používa aj v procese z kotúča na kotúč na baliace fólie, optické fólie, laminovanie a iné nanášanie filmov.
Čas uverejnenia: 7. novembra 2022