1. Technológia depozície s asistenciou iónového lúča sa vyznačuje silnou adhéziou medzi membránou a substrátom, pričom membránová vrstva je veľmi pevná. Experimenty ukazujú, že: pri depozícii s asistenciou iónového lúča sa adhézia niekoľkonásobne až stonásobne zvýšila v porovnaní s adhéziou tepelnej depozície z pár. Dôvodom je hlavne čistiaci účinok iónového bombardovania povrchu, čím sa na rozhraní membránovej základne vytvorí gradientná medzifázová štruktúra alebo hybridná prechodová vrstva, čím sa zníži membránové napätie.
2. Depozícia s pomocou iónového lúča môže zlepšiť mechanické vlastnosti filmu a predĺžiť únavovú životnosť, čo je veľmi vhodné na prípravu oxidov, karbidov, kubického BN, TiB2 a diamantových povlakov. Napríklad pri použití technológie depozície s pomocou iónového lúča na nanesenie 200 nm filmu Si3N4 z tepelne odolnej ocele 1Cr18Ni9Ti sa nielenže môže zabrániť vzniku únavových trhlín na povrchu materiálu, ale aj výrazne znížiť rýchlosť difúzie únavových trhlín, čo má priaznivý vplyv na predĺženie jeho životnosti.
3. Depozícia s pomocou iónového lúča môže zmeniť charakter napätia vo filme a zmeniť jeho kryštalickú štruktúru. Napríklad pri príprave Cr filmu bombardovaním povrchu substrátu Xe+ alebo Ar+ s energiou 11,5 keV sa zistilo, že úpravou teploty substrátu, energie bombardovania iónmi, iónmi a atómami na dosiahnutie požadovaného pomeru parametrov sa môže napätie zmeniť z ťahového napätia na tlakové, čo tiež spôsobí zmeny v kryštalickej štruktúre filmu. Pri určitom pomere príchodu iónov k atómom má depozícia s pomocou iónového lúča lepšiu selektívnu orientáciu ako membránová vrstva nanesená tepelnou depozíciou z pár.
4. Nanášanie pomocou iónového lúča môže zvýšiť odolnosť membrány proti korózii a oxidácii. Vďaka hustote nanášanej vrstvy pomocou iónového lúča sa zlepšuje štruktúra rozhrania základne filmu alebo vzniká amorfný stav v dôsledku miznutia hraníc zŕn medzi časticami, čo vedie k zvýšeniu odolnosti materiálu proti korózii a odolnosti voči oxidácii pri vysokých teplotách.
5. Nanášanie pomocou iónového lúča môže zmeniť elektromagnetické vlastnosti filmu a zlepšiť výkon optických tenkých filmov.
6. Iónovo asistovaná depozícia umožňuje presné a nezávislé nastavenie parametrov súvisiacich s atómovou depozíciou a iónovou implantáciou a umožňuje postupné generovanie povlakov s veľkosťou niekoľkých mikrometrov s konzistentným zložením pri nízkych energiách bombardovania, takže rôzne tenké filmy je možné pestovať pri izbovej teplote, čím sa zabráni nepriaznivým účinkom na materiály alebo presné súčiastky, ktoré môžu byť spôsobené ich spracovaním pri zvýšených teplotách.
–Tento článok vydávavýrobca vákuových lakovacích strojovGuangdong Zhenhua
Čas uverejnenia: 24. januára 2024