CVD ආලේපන තාක්ෂණයට පහත ලක්ෂණ ඇත:
1. CVD උපකරණවල ක්රියාවලි ක්රියාකාරිත්වය සාපේක්ෂව සරල සහ නම්යශීලී වන අතර, එයට විවිධ අනුපාතවලින් තනි හෝ සංයුක්ත පටල සහ මිශ්ර ලෝහ පටල සකස් කළ හැකිය;
2. CVD ආලේපනය පුළුල් පරාසයක යෙදුම් ඇති අතර, විවිධ ලෝහ හෝ ලෝහ පටල ආලේපන සකස් කිරීමට භාවිතා කළ හැක;
3. මිනිත්තුවකට මයික්රෝන කිහිපයක සිට මයික්රෝන සිය ගණනක් දක්වා වූ තැන්පත් වීමේ අනුපාත හේතුවෙන් ඉහළ නිෂ්පාදන කාර්යක්ෂමතාව;
4. PVD ක්රමය හා සසඳන විට, CVD වඩා හොඳ විවර්තන කාර්ය සාධනයක් ඇති අතර කට්ට, ආලේපිත සිදුරු සහ අන්ධ සිදුරු ව්යුහයන් වැනි සංකීර්ණ හැඩතල සහිත උපස්ථර ආලේප කිරීම සඳහා ඉතා සුදුසු වේ. ආලේපනය හොඳ සංයුක්තතාවයක් සහිත පටලයකට ආලේප කළ හැකිය. පටල සෑදීමේ ක්රියාවලියේදී ඉහළ උෂ්ණත්වය සහ පටල උපස්ථර අතුරුමුහුණතෙහි ශක්තිමත් ඇලීම හේතුවෙන්, පටල ස්ථරය ඉතා ස්ථිරයි.
5. විකිරණ මගින් සිදුවන හානිය සාපේක්ෂව අඩු වන අතර MOS ඒකාබද්ධ පරිපථ ක්රියාවලීන් සමඟ ඒකාබද්ධ කළ හැකිය.
——මෙම ලිපිය ප්රකාශයට පත් කර ඇත්තේ ගුවැන්ඩොං ෂෙන්හුවා විසිනි, ඒ.රික්ත ආලේපන යන්ත්ර නිෂ්පාදකයා
පළ කිරීමේ කාලය: මාර්තු-29-2023