ويڪيوم ميگنيٽرون اسپٽرنگ ڪوٽنگ سامان جون ٽيڪنيڪل خاصيتون

ويڪيوم ميگنيٽرون اسپٽرنگ خاص طور تي رد عمل واري جمع ڪوٽنگ لاءِ موزون آهي. حقيقت ۾، هي عمل ڪنهن به آڪسائيڊ، ڪاربائيڊ، ۽ نائٽرائڊ مواد جي پتلي فلمن کي جمع ڪري سگهي ٿو. ان کان علاوه، اهو عمل خاص طور تي ملٽي ليئر فلم اسٽرڪچر جي جمع ڪرڻ لاءِ به موزون آهي، جنهن ۾ آپٽيڪل ڊيزائن، رنگين فلمون، لباس مزاحمتي ڪوٽنگ، نانو-ليمينيٽس، سپرليٽس ڪوٽنگ، انسوليٽنگ فلمون وغيره شامل آهن. 1970 جي شروعات ۾، مختلف قسم جي آپٽيڪل فلم پرت مواد لاءِ اعليٰ معيار جي آپٽيڪل فلم جمع ڪرڻ جا مثال تيار ڪيا ويا آهن. انهن مواد ۾ شفاف ڪنڊڪٽو مواد، سيمي ڪنڊڪٽر، پوليمر، آڪسائيڊ، ڪاربائيڊ ۽ نائٽرائڊ شامل آهن، جڏهن ته فلورائيڊز کي بخاراتي ڪوٽنگ جهڙن عملن ۾ استعمال ڪيو ويندو آهي.

ميگنيٽرون اسپٽرنگ عمل جو مکيه فائدو انهن مواد جي پرتن کي جمع ڪرڻ لاءِ رد عمل يا غير رد عمل ڪوٽنگ عملن کي استعمال ڪرڻ ۽ پرت جي جوڙجڪ، فلم جي ٿولهه، فلم جي ٿولهه جي هڪجهڙائي ۽ پرت جي ميڪيڪل خاصيتن کي چڱي طرح ڪنٽرول ڪرڻ آهي. عمل ۾ هيٺ ڏنل خاصيتون آهن.

1، وڏي جمع جي شرح. تيز رفتار ميگنيٽرون اليڪٽروڊس جي استعمال جي ڪري، هڪ وڏو آئن وهڪرو حاصل ڪري سگهجي ٿو، مؤثر طريقي سان هن ڪوٽنگ جي عمل جي جمع جي شرح ۽ اسپٽرنگ جي شرح کي بهتر بڻائي ٿو. ٻين اسپٽرنگ ڪوٽنگ جي عملن جي مقابلي ۾، ميگنيٽرون اسپٽرنگ ۾ هڪ اعلي گنجائش ۽ اعلي پيداوار آهي، ۽ مختلف صنعتي پيداوار ۾ وڏي پيماني تي استعمال ٿيندو آهي.

2، اعلي طاقت جي ڪارڪردگي. ميگنيٽرون اسپٽرنگ ٽارگيٽ عام طور تي 200V-1000V جي حد اندر وولٽيج چونڊيندا آهن، عام طور تي 600V هوندو آهي، ڇاڪاڻ ته 600V جو وولٽيج صرف پاور ڪارڪردگي جي سڀ کان وڌيڪ اثرائتي حد اندر هوندو آهي.

3. گھٽ ڦڦڙ توانائي. ميگنيٽرون ٽارگيٽ وولٽيج گهٽ لاڳو ٿئي ٿو، ۽ مقناطيسي ميدان ڪيٿوڊ جي ويجهو پلازما کي محدود ڪري ٿو، جيڪو وڌيڪ توانائي چارج ٿيل ذرات کي سبسٽريٽ تي لانچ ٿيڻ کان روڪي ٿو.

4، گهٽ سبسٽريٽ گرمي پد. اينوڊ کي خارج ٿيڻ دوران پيدا ٿيندڙ اليڪٽرانن کي هدايت ڪرڻ لاءِ استعمال ڪري سگهجي ٿو، مڪمل ڪرڻ لاءِ سبسٽريٽ سپورٽ جي ضرورت ناهي، جيڪو سبسٽريٽ جي اليڪٽران بمباري کي مؤثر طريقي سان گهٽائي سگهي ٿو. اهڙيءَ طرح سبسٽريٽ جو گرمي پد گهٽ آهي، جيڪو ڪجهه پلاسٽڪ سبسٽريٽ لاءِ تمام مثالي آهي جيڪي اعليٰ درجه حرارت جي ڪوٽنگ لاءِ تمام گهڻو مزاحمتي نه آهن.

5، ميگنيٽرون اسپٽرنگ ٽارگيٽ مٿاڇري جي ايچنگ هڪجهڙائي ناهي. ميگنيٽرون اسپٽرنگ ٽارگيٽ مٿاڇري جي ايچنگ غير مساوي آهي ٽارگيٽ جي غير مساوي مقناطيسي ميدان جي ڪري. ٽارگيٽ ايچنگ جي شرح جو مقام وڏو آهي, انهي ڪري ته ٽارگيٽ جي اثرائتي استعمال جي شرح گهٽ آهي (صرف 20-30٪ استعمال جي شرح). تنهن ڪري, ٽارگيٽ استعمال کي بهتر بڻائڻ لاءِ, مقناطيسي فيلڊ جي ورڇ کي ڪجهه طريقن سان تبديل ڪرڻ جي ضرورت آهي, يا ڪيٿوڊ ۾ هلندڙ مقناطيس جو استعمال پڻ ٽارگيٽ استعمال کي بهتر بڻائي سگهي ٿو.

6、جامع ٽارگيٽ. جامع ٽارگيٽ ڪوٽنگ مصر فلم ٺاهي سگھي ٿو. هن وقت، جامع ميگنيٽرون ٽارگيٽ اسپٽرنگ عمل جو استعمال ڪاميابي سان Ta-Ti مصر، (Tb-Dy)-Fe ۽ Gb-Co مصر فلم تي ڪوٽ ڪيو ويو آهي. جامع ٽارگيٽ structure جا چار قسم آهن، ترتيب وار، گول inlaid ٽارگيٽ آهن، چورس inlaid ٽارگيٽ، ننڍو چورس inlaid ٽارگيٽ ۽ سيڪٽر inlaid ٽارگيٽ. شعبي inlaid ٽارگيٽ structure جو استعمال بهتر آهي.

7. ايپليڪيشنن جي وسيع رينج. ميگنيٽرون اسپٽرنگ عمل ڪيترن ئي عنصرن کي جمع ڪري سگھي ٿو، عام عنصر آهن: Ag، Au، C، Co، Cu، Fe، Ge، Mo، Nb، Ni، Os، Cr، Pd، Pt، Re، Rh، Si، Ta، Ti، Zr، SiO، AlO، GaAs، U، W، SnO، وغيره.

ميگنيٽرون اسپٽرنگ اعليٰ معيار جي فلمن کي حاصل ڪرڻ لاءِ سڀ کان وڌيڪ استعمال ٿيندڙ ڪوٽنگ عملن مان هڪ آهي. هڪ نئين ڪيٿوڊ سان، ان ۾ اعليٰ ٽارگيٽ استعمال ۽ اعليٰ جمع ڪرڻ جي شرح آهي. گوانگ ڊونگ زينهوا ٽيڪنالاجي ويڪيوم ميگنيٽرون اسپٽرنگ ڪوٽنگ عمل هاڻي وڏي ايراضي جي سبسٽريٽس جي ڪوٽنگ ۾ وڏي پيماني تي استعمال ٿئي ٿو. اهو عمل نه رڳو سنگل ليئر فلم جمع ڪرڻ لاءِ استعمال ٿيندو آهي، پر ملٽي ليئر فلم ڪوٽنگ لاءِ پڻ، ان کان علاوه، اهو پيڪنگنگ فلم، آپٽيڪل فلم، ليمينيشن ۽ ٻين فلم ڪوٽنگ لاءِ رول ٽو رول عمل ۾ پڻ استعمال ٿيندو آهي.