Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новости
-
Технологический процесс установки для напыления покрытий
1. Бомбардировочная очистка подложки 1.1) В установке для напыления используется тлеющий разряд для очистки подложки. То есть, в камеру подается аргон, напряжение разряда составляет около 1000 В. После включения питания генерируется тлеющий разряд, и подложка очищается...Читать далее -
Применение оптической пленки в мобильных телефонах.
Применение оптических тонких пленок в потребительской электронике, такой как мобильные телефоны, сместилось от традиционных объективов камер к более разнообразным направлениям, таким как объективы камер, защитные пленки для объективов, инфракрасные фильтры (IR-CUT) и покрытие NCVM на крышках аккумуляторных батарей мобильных телефонов. Спецификации камер...Читать далее -
Характеристики оборудования для нанесения покрытий методом химического осаждения из газовой фазы (CVD).
Технология CVD-покрытия обладает следующими характеристиками: 1. Процесс работы CVD-оборудования относительно прост и гибок, и позволяет получать однослойные, композитные и сплавные пленки с различными пропорциями компонентов; 2. CVD-покрытие имеет широкий спектр применения и может использоваться для предварительной обработки...Читать далее -
Что представляют собой процессы вакуумного напыления? Каков принцип работы вакуумной напылительной машины?
Процесс нанесения покрытий в вакуумной установке подразделяется на: вакуумное напыление, вакуумное распыление и вакуумное ионное напыление. 1. Вакуумное напыление. В условиях вакуума происходит испарение материала, такого как металл, металлический сплав и т. д., после чего он наносится на поверхность подложки...Читать далее -
Для чего нужен пылесос?
1. Что такое вакуумное нанесение покрытия? Какова его функция? Так называемый процесс вакуумного нанесения покрытия использует испарение и распыление в вакуумной среде для образования частиц пленочного материала, которые наносятся на металлические, стеклянные, керамические, полупроводниковые и пластиковые детали, образуя защитный слой для...Читать далее -
Экологические требования к оборудованию для вакуумного нанесения покрытий
Поскольку вакуумное напылительное оборудование работает в вакуумных условиях, оно должно соответствовать требованиям вакуума для окружающей среды. В моей стране разработаны отраслевые стандарты для различных типов вакуумного напылительного оборудования (включая общие технические условия для вакуумного напылительного оборудования...).Читать далее -
Характеристики и применение ионного напыления
Тип пленки Материал пленки Подложка Характеристики и применение пленки Металлическая пленка CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt сталь, низкоуглеродистая сталь Титановый сплав, высокоуглеродистая сталь, низкоуглеродистая сталь Титановый сплав твердое стекло пластик Никель, инконель сталь, нержавеющая сталь кремний Износостойкий ...Читать далее -
Вакуумное ионное напыление и его классификация
Вакуумное ионное напыление (сокращенно ионное напыление) — это новая технология обработки поверхностей, быстро развивавшаяся в 1970-х годах. Она была предложена Д.М. Маттоксом из компании Somdia в США в 1963 году. Речь идет о процессе использования источника испарения или мишени для распыления с целью испарения или распыления...Читать далее -
Установка для нанесения оптических покрытий может использоваться для нанесения покрытий на несколько оптических пленок.
① Антиотражающая пленка. Например, фотоаппараты, слайд-проекторы, проекторы, кинопроекторы, телескопы, смотровые стекла и однослойные пленки MgF, нанесенные на линзы и призмы различных оптических приборов, а также двухслойные или многослойные широкополосные антиотражающие пленки, состоящие из SiOFrO2, AlO, ...Читать далее -
Характеристики пленок, полученных методом магнетронного распыления.
① Хорошая управляемость и воспроизводимость толщины пленки. Возможность контролировать толщину пленки до заданного значения называется управляемостью толщины пленки. Возможность многократного повторения требуемой толщины пленки называется воспроизводимостью толщины пленки. Поскольку разряд...Читать далее -
Краткое введение в технологию химического осаждения из газовой фазы (CVD).
Технология химического осаждения из газовой фазы (CVD) — это технология формирования пленок, которая использует нагрев, усиление плазмы, фотостимуляцию и другие методы для образования твердых пленок из газообразных веществ на поверхности подложки посредством химической реакции при нормальном или низком давлении. Как правило, реакция в...Читать далее -
Факторы, влияющие на эффективность вакуумного напыления.
1. Скорость испарения влияет на свойства напыляемого покрытия. Скорость испарения оказывает большое влияние на осажденную пленку. Поскольку структура покрытия, образованная при низкой скорости осаждения, рыхлая и легко образует крупные частицы, целесообразно выбирать более высокую скорость испарения…Читать далее -
Каковы источники загрязнения оборудования для вакуумного напыления?
Оборудование для вакуумного напыления состоит из множества прецизионных деталей, изготовленных с помощью различных технологических процессов, таких как сварка, шлифовка, токарная обработка, строгание, расточка, фрезерование и т. д. В результате этих работ поверхность деталей оборудования неизбежно загрязняется различными веществами, такими как смазка...Читать далее -
Каковы требования к процессу вакуумного напыления в условиях его применения?
Процесс вакуумного напыления предъявляет строгие требования к условиям эксплуатации. Для традиционного вакуумного процесса основными требованиями к вакуумной санитарии являются: отсутствие источников загрязнения на деталях или поверхности оборудования в вакууме, а также чистота поверхности вакуумной камеры...Читать далее -
В чём принцип работы установки ионного осаждения?
Установка для ионного нанесения покрытий возникла из теории, предложенной Д.М. Маттоксом в 1960-х годах, и соответствующие эксперименты начались в то же время; до 1971 года Чемберс и другие опубликовали технологию ионного нанесения покрытий электронным пучком; технология реактивного испарения (ARE) была описана в Бу...Читать далее
