A tecnologia de revestimento a vácuo é uma tecnologia que deposita materiais de película fina na superfície de substratos sob vácuo, amplamente utilizada em eletrônica, óptica, embalagens, decoração e outras áreas. Os equipamentos de revestimento a vácuo podem ser divididos principalmente nos seguintes tipos:
1. Equipamento de revestimento por evaporação térmica: este é o método de revestimento a vácuo mais tradicional, ao aquecer o material de filme fino no barco de evaporação, o material é evaporado e depositado na superfície do material do substrato.
2. Equipamento de revestimento por pulverização catódica: utilizando íons de alta energia para atingir a superfície do material alvo, os átomos do material alvo são pulverizados e depositados no substrato. A pulverização catódica por magnetron consegue obter uma adesão mais uniforme e forte do filme, adequada para produção em massa.
3. Equipamento de deposição por feixe de íons: Feixes de íons são usados para depositar materiais em filmes finos sobre o substrato. Este método permite obter filmes muito uniformes e é adequado para aplicações com alta precisão, mas o custo do equipamento é alto.
4. Equipamento de Deposição Química de Vapor (CVD): Forma filmes finos na superfície do substrato por meio de uma reação química. Este método pode preparar filmes multiespécies de alta qualidade, mas o equipamento é complexo e caro.
5. Equipamento de epitaxia de feixe molecular (MBE): Este é um método de controle do crescimento de filmes finos no nível atômico e é usado principalmente para a preparação de camadas ultrafinas e estruturas multicamadas para aplicações de semicondutores e nanotecnologia.
6. Equipamento de deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD): Esta é uma técnica que usa plasma para melhorar a deposição de filmes finos por meio de uma reação química, permitindo a rápida formação de filmes finos em temperaturas mais baixas.
7. Dispositivos de deposição de laser pulsado (PLD): usam pulsos de laser de alta energia para atingir um alvo, evaporar material da superfície alvo e depositá-lo em um substrato, sendo adequados para o crescimento de filmes de óxido complexos de alta qualidade.
Cada um desses dispositivos possui características próprias em termos de design e operação, sendo adequado para diferentes aplicações industriais e áreas de pesquisa. Com o desenvolvimento da tecnologia, a tecnologia de revestimento a vácuo também avança, e novos equipamentos de revestimento a vácuo também surgem.
–Este artigo foi publicado pormáquina de revestimento a vácuofabricante Guangdong Zhenhua
Horário da publicação: 12/06/2024