A pulverização catódica por magnetron a vácuo é particularmente adequada para revestimentos de deposição reativa. De fato, este processo pode depositar filmes finos de quaisquer materiais de óxido, carboneto e nitreto. Além disso, o processo também é particularmente adequado para a deposição de estruturas de filmes multicamadas, incluindo designs ópticos, filmes coloridos, revestimentos resistentes ao desgaste, nanolaminados, revestimentos super-rede, filmes isolantes, etc. Já na década de 1970, exemplos de deposição de filmes ópticos de alta qualidade foram desenvolvidos para uma variedade de materiais de camadas de filmes ópticos. Esses materiais incluem materiais condutores transparentes, semicondutores, polímeros, óxidos, carbonetos e nitretos, enquanto os fluoretos são usados em processos como o revestimento evaporativo.
A principal vantagem do processo de pulverização catódica por magnetron é a utilização de processos de revestimento reativos ou não reativos para depositar camadas desses materiais, além do controle preciso da composição da camada, da espessura do filme, da uniformidade da espessura do filme e das propriedades mecânicas da camada. O processo apresenta as seguintes características:
1、Alta taxa de deposição. Devido ao uso de eletrodos de magnetron de alta velocidade, um grande fluxo de íons pode ser obtido, melhorando efetivamente a taxa de deposição e a taxa de pulverização catódica deste processo de revestimento. Comparado a outros processos de revestimento por pulverização catódica, a pulverização catódica por magnetron possui alta capacidade e alto rendimento, sendo amplamente utilizada em diversas produções industriais.
2、Alta eficiência energética. O alvo de pulverização catódica magnetron geralmente escolhe uma tensão na faixa de 200V a 1000V, geralmente 600V, pois a tensão de 600V está dentro da faixa mais efetiva de eficiência energética.
3. Baixa energia de pulverização catódica. A tensão alvo do magnetron é aplicada em baixa intensidade, e o campo magnético confina o plasma próximo ao cátodo, o que impede que partículas carregadas com energia mais alta sejam lançadas sobre o substrato.
4. Baixa temperatura do substrato. O ânodo pode ser usado para guiar os elétrons gerados durante a descarga, sem a necessidade de suporte do substrato para sua conclusão, o que pode reduzir efetivamente o bombardeio de elétrons do substrato. Portanto, a temperatura do substrato é baixa, o que é ideal para alguns substratos plásticos que não são muito resistentes a revestimentos de alta temperatura.
5. A corrosão da superfície do alvo por pulverização catódica do magnetron não é uniforme. A corrosão irregular da superfície do alvo por pulverização catódica do magnetron é causada pelo campo magnético irregular do alvo. A localização da taxa de corrosão do alvo é maior, de modo que a taxa de utilização efetiva do alvo é baixa (taxa de utilização de apenas 20-30%). Portanto, para melhorar a utilização do alvo, a distribuição do campo magnético precisa ser alterada por certos meios, ou o uso de ímãs que se movem no cátodo também pode melhorar a utilização do alvo.
6. Alvo composto. É possível produzir um filme de liga de revestimento de alvo composto. Atualmente, o processo de pulverização catódica de alvo composto por magnetron tem sido utilizado com sucesso em filmes de liga Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe e Gb-Co. A estrutura de alvo composto possui quatro tipos: alvo redondo incrustado, alvo quadrado incrustado, alvo quadrado pequeno incrustado e alvo setorial incrustado. O uso da estrutura de alvo setorial incrustado é mais vantajoso.
7. Ampla gama de aplicações. O processo de pulverização catódica magnetron pode depositar diversos elementos, sendo os mais comuns: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, Al2O3, GaAs, U, W, SnO, etc.
A pulverização catódica magnetron é um dos processos de revestimento mais amplamente utilizados para a obtenção de filmes de alta qualidade. Com um novo cátodo, apresenta alta utilização do alvo e alta taxa de deposição. O processo de revestimento por pulverização catódica magnetron a vácuo da Guangdong Zhenhua Technology é amplamente utilizado no revestimento de substratos de grandes áreas. O processo não é utilizado apenas para a deposição de filmes de camada única, mas também para o revestimento de filmes multicamadas. Além disso, também é utilizado no processo rolo a rolo para filmes de embalagem, filmes ópticos, laminação e outros revestimentos de filmes.
Horário da postagem: 07/11/2022