3. Influência da temperatura do substrato
A temperatura do substrato é uma das condições importantes para o crescimento da membrana. Ela fornece energia adicional aos átomos ou moléculas da membrana e afeta principalmente a estrutura da membrana, o coeficiente de aglutinação, o coeficiente de expansão e a densidade de agregação. A reflexão macroscópica no filme, o índice de refração, a dispersão, a tensão, a adesão, a dureza e a insolubilidade serão muito diferentes devido à variação da temperatura do substrato.
(1) Substrato frio: geralmente usado para evaporação de filme metálico.
(2) Vantagens da alta temperatura:
① As moléculas de gás residual adsorvidas na superfície do substrato são removidas para aumentar a força de ligação entre o substrato e as moléculas depositadas;
(2) Promover a transformação da adsorção física em quimissorção da camada do filme, aumentar a interação entre as moléculas, tornar o filme firme, aumentar a adesão e melhorar a resistência mecânica;
③ Reduzir a diferença entre a temperatura de recristalização molecular do vapor e a temperatura do substrato, melhorar a densidade da camada do filme e aumentar a dureza da camada do filme para eliminar a tensão interna.
(3) A desvantagem da temperatura muito alta: a estrutura da camada do filme muda ou o material do filme se decompõe.
4. Efeitos do bombardeio iônico
O bombardeio após a deposição de óxido melhora a densidade de agregação do filme, intensifica a reação química, aumenta o índice de refração, a resistência mecânica e a adesão do filme de óxido. O limiar de dano por luz também aumenta.
5. A influência do material do substrato
(1) Diferentes coeficientes de expansão do material do substrato levarão a diferentes tensões térmicas do filme;
(2) Diferentes afinidades químicas afetarão a adesão e a firmeza do filme;
(3) A rugosidade e os defeitos do substrato são as principais fontes de dispersão do filme fino.
6. Impacto da limpeza do substrato
Resíduos de sujeira e detergente na superfície do substrato levarão a: (1) má adesão do filme ao substrato; 2) aumento da absorção de dispersão, a capacidade anti-laser é baixa; 3) desempenho de transmissão de luz ruim.
A composição química (tipos de pureza e impurezas), o estado físico (pó ou bloco) e o pré-tratamento (sinterização a vácuo ou forjamento) do material do filme afetarão a estrutura e o desempenho do filme.
8. Influência do método de evaporação
A energia cinética inicial fornecida por diferentes métodos de evaporação para vaporizar moléculas e átomos é muito diferente, resultando em uma grande diferença na estrutura do filme, que se manifesta como diferença no índice de refração, dispersão e adesão.
9. Influência do ângulo de incidência do vapor
O ângulo de incidência do vapor refere-se ao ângulo entre a direção da radiação molecular do vapor e a normal à superfície do substrato revestido, o qual afeta as características de crescimento e a densidade de agregação do filme, e tem grande influência no índice de refração e nas características de dispersão do filme. Para obter filmes de alta qualidade, é necessário controlar o ângulo de emissão das moléculas de vapor do material do filme, que geralmente deve ser limitado a 30°.
10. Efeitos do tratamento térmico de cozimento
O tratamento térmico do filme na atmosfera favorece a liberação de tensões e a migração térmica das moléculas do gás ambiente e das moléculas do filme, podendo causar a recombinação da estrutura do filme. Consequentemente, ele exerce grande influência sobre o índice de refração, a tensão e a dureza do filme.
Data da publicação: 29/03/2024