1. ਆਇਨ ਬੀਮ ਅਸਿਸਟਡ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਝਿੱਲੀ ਅਤੇ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਮਜ਼ਬੂਤ ਅਡੈਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਦਰਸਾਈ ਗਈ ਹੈ, ਝਿੱਲੀ ਪਰਤ ਬਹੁਤ ਮਜ਼ਬੂਤ ਹੈ। ਪ੍ਰਯੋਗ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ: ਥਰਮਲ ਵਾਸ਼ਪ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਦੇ ਅਡੈਸ਼ਨ ਨਾਲੋਂ ਆਇਨ ਬੀਮ-ਸਹਾਇਤਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਅਡੈਸ਼ਨ ਦਾ ਕਈ ਗੁਣਾ ਵੱਧ ਕੇ ਸੈਂਕੜੇ ਗੁਣਾ ਹੋ ਗਿਆ ਹੈ, ਇਸਦਾ ਕਾਰਨ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਫਾਈ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਆਇਨ ਬੰਬਾਰੀ ਹੈ, ਤਾਂ ਜੋ ਝਿੱਲੀ ਦਾ ਅਧਾਰ ਇੰਟਰਫੇਸ ਇੱਕ ਗਰੇਡੀਐਂਟ ਇੰਟਰਫੇਸ਼ੀਅਲ ਬਣਤਰ, ਜਾਂ ਹਾਈਬ੍ਰਿਡ ਪਰਿਵਰਤਨ ਪਰਤ, ਅਤੇ ਨਾਲ ਹੀ ਝਿੱਲੀ ਦੇ ਤਣਾਅ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕੇ।
2. ਆਇਨ ਬੀਮ ਅਸਿਸਟਡ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਦੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਗੁਣਾਂ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਥਕਾਵਟ ਦੀ ਉਮਰ ਵਧਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਆਕਸਾਈਡ, ਕਾਰਬਾਈਡ, ਕਿਊਬਿਕ BN, TiB2, ਅਤੇ ਹੀਰੇ ਵਰਗੀ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਤਿਆਰੀ ਲਈ ਬਹੁਤ ਢੁਕਵਾਂ ਹੈ। ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, 1Cr18Ni9Ti ਗਰਮੀ-ਰੋਧਕ ਸਟੀਲ ਵਿੱਚ 200nm Si3N4 ਫਿਲਮ ਨੂੰ ਉਗਾਉਣ ਲਈ ਆਇਨ-ਬੀਮ-ਸਹਾਇਤਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ 'ਤੇ, ਨਾ ਸਿਰਫ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਥਕਾਵਟ ਦਰਾਰਾਂ ਦੇ ਉਭਾਰ ਨੂੰ ਰੋਕ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਸਗੋਂ ਥਕਾਵਟ ਦਰਾੜ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰ ਦੀ ਦਰ ਨੂੰ ਵੀ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੌਰ 'ਤੇ ਘਟਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਇਸਦੀ ਉਮਰ ਵਧਾਉਣ ਲਈ ਇੱਕ ਚੰਗੀ ਭੂਮਿਕਾ ਹੈ।
3. ਆਇਨ ਬੀਮ ਅਸਿਸਟਡ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਦੇ ਤਣਾਅ ਦੇ ਸੁਭਾਅ ਨੂੰ ਬਦਲ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸਦੀ ਕ੍ਰਿਸਟਲਿਨ ਬਣਤਰ ਬਦਲ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, 11.5keV Xe + ਜਾਂ ਸਬਸਟਰੇਟ ਸਤਹ 'ਤੇ Ar + ਬੰਬਾਰੀ ਨਾਲ Cr ਫਿਲਮ ਦੀ ਤਿਆਰੀ, ਪਾਇਆ ਗਿਆ ਕਿ ਸਬਸਟਰੇਟ ਤਾਪਮਾਨ, ਬੰਬਾਰੀ ਆਇਨ ਊਰਜਾ, ਆਇਨਾਂ ਅਤੇ ਪਰਮਾਣੂਆਂ ਨੂੰ ਪੈਰਾਮੀਟਰਾਂ ਦੇ ਅਨੁਪਾਤ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਣ ਲਈ ਸਮਾਯੋਜਨ, ਤਣਾਅ ਤਣਾਅ ਤੋਂ ਸੰਕੁਚਿਤ ਤਣਾਅ ਤੱਕ ਤਣਾਅ ਬਣਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਫਿਲਮ ਦੀ ਕ੍ਰਿਸਟਲਿਨ ਬਣਤਰ ਵੀ ਬਦਲਾਅ ਪੈਦਾ ਕਰੇਗੀ। ਇੱਕ ਖਾਸ ਆਇਨ-ਤੋਂ-ਪਰਮਾਣੂ ਆਗਮਨ ਅਨੁਪਾਤ ਦੇ ਤਹਿਤ, ਆਇਨ ਬੀਮ ਅਸਿਸਟਡ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਥਰਮਲ ਵਾਸ਼ਪ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤੀ ਗਈ ਝਿੱਲੀ ਪਰਤ ਨਾਲੋਂ ਬਿਹਤਰ ਚੋਣਤਮਕ ਸਥਿਤੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।
4. ਆਇਨ ਬੀਮ ਅਸਿਸਟਡ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਝਿੱਲੀ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਆਕਸੀਕਰਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਵਧਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਫਿਲਮ ਪਰਤ ਦੇ ਆਇਨ ਬੀਮ-ਸਹਾਇਤਾ ਵਾਲੇ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਦੀ ਘਣਤਾ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਫਿਲਮ ਬੇਸ ਇੰਟਰਫੇਸ ਬਣਤਰ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਜਾਂ ਕਣਾਂ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਅਨਾਜ ਦੀਆਂ ਸੀਮਾਵਾਂ ਦੇ ਅਲੋਪ ਹੋਣ ਕਾਰਨ ਅਮੋਰਫਸ ਅਵਸਥਾ ਦਾ ਗਠਨ, ਜੋ ਕਿ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਅਤੇ ਉੱਚ ਤਾਪਮਾਨ ਦੇ ਆਕਸੀਕਰਨ ਦਾ ਵਿਰੋਧ ਕਰਨ ਲਈ ਅਨੁਕੂਲ ਹੈ।
5. ਆਇਨ ਬੀਮ ਅਸਿਸਟਡ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਫਿਲਮ ਦੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਗੁਣਾਂ ਨੂੰ ਬਦਲ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਆਪਟੀਕਲ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਦੇ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
6. ਆਇਨ-ਸਹਾਇਤਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਜਮ੍ਹਾ ਪਰਮਾਣੂ ਜਮ੍ਹਾ ਅਤੇ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਨਾਲ ਸਬੰਧਤ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਦੇ ਸਟੀਕ ਅਤੇ ਸੁਤੰਤਰ ਸਮਾਯੋਜਨ ਦੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਘੱਟ ਬੰਬਾਰੀ ਊਰਜਾਵਾਂ 'ਤੇ ਇਕਸਾਰ ਰਚਨਾ ਦੇ ਨਾਲ ਕੁਝ ਮਾਈਕ੍ਰੋਮੀਟਰਾਂ ਦੇ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੀ ਲਗਾਤਾਰ ਪੀੜ੍ਹੀ ਦੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਜੋ ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਪਤਲੀਆਂ ਫਿਲਮਾਂ ਉਗਾਈਆਂ ਜਾ ਸਕਣ, ਸਮੱਗਰੀ ਜਾਂ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਹਿੱਸਿਆਂ 'ਤੇ ਮਾੜੇ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ ਤੋਂ ਬਚਿਆ ਜਾ ਸਕੇ ਜੋ ਉੱਚੇ ਤਾਪਮਾਨਾਂ 'ਤੇ ਇਲਾਜ ਕਰਨ ਕਾਰਨ ਹੋ ਸਕਦੇ ਹਨ।
-ਇਹ ਲੇਖ ਇਸ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਕਾਸ਼ਿਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈਵੈਕਿਊਮ ਕੋਟਿੰਗ ਮਸ਼ੀਨ ਨਿਰਮਾਤਾਗੁਆਂਗਡੋਂਗ ਜ਼ੇਨਹੂਆ
ਪੋਸਟ ਸਮਾਂ: ਜਨਵਰੀ-24-2024