De mekaniske egenskapene til membranlaget påvirkes av adhesjon, spenning, aggregeringstetthet osv. Fra forholdet mellom membranlagets materiale og prosessfaktorer kan man se at hvis vi ønsker å forbedre membranlagets mekaniske styrke, bør vi fokusere på følgende prosessparametere:
(1) vakuumnivå. Vakuum har en tydelig innvirkning på filmens ytelse. De fleste ytelsesindikatorene for filmlaget er svært avhengige av vakuumnivået. Vanligvis, når vakuumgraden øker, øker filmens aggregeringstetthet, fastheten øker, filmstrukturen forbedres, den kjemiske sammensetningen blir renere, men samtidig øker også spenningen.
(2) Avsetningshastighet. Forbedring av avsetningshastigheten kan ikke bare brukes til å forbedre fordampningshastigheten, det vil si å øke temperaturen på fordampningskilden, men den kan også brukes til å øke arealet på fordampningskilden. Bruk av fordampningskilden for å øke temperaturen har også sine ulemper: membranlagets spenning blir for stor; filmdannende gass brytes lett ned. Derfor er det noen ganger gunstig å øke arealet på fordampningskilden enn å forbedre temperaturen på fordampningskilden.
(3) Substrattemperatur. Økning av substrattemperaturen bidrar til at gjenværende gassmolekyler adsorberes på substratoverflaten, og øker substratets og bindingskraften mellom de avsatte molekylene: samtidig vil dette fremme omdannelsen av fysisk adsorpsjon til kjemisk adsorpsjon, forbedre samspillet mellom molekylene, slik at membranlagets struktur blir tett. For eksempel kan Mg-membransubstratoppvarming til 250 ~ 300 ℃ redusere indre spenninger, forbedre aggregeringstettheten og øke membranlagets hardhet: substratoppvarming til 120 ~ 150 ℃ for flerlagsmembraner med Zr03-Si02 øker den mekaniske styrken betraktelig, men for høy substrattemperatur vil føre til forringelse av membranlaget.
(4) Ionebombardement. Ionebombardement har en effekt på dannelsen av svært kohesive overflater, overflateruhet, oksidasjon og aggregeringstetthet. Bombardement før belegg kan rense overflaten og øke adhesjonen; bombardement etter belegg kan forbedre filmlagets aggregeringstetthet, osv., og dermed øke den mekaniske styrken og hardheten.
(5) Rengjøring av substrat. Rengjøringsmetoden for substratet er ikke egnet eller ikke ren. Hvis urenheter eller rengjøringsmidler blir igjen i substratet, kan det oppstå ny forurensning. Belegget har forskjellige kohesjons- og heftforhold, noe som påvirker det første lagets strukturelle egenskaper og optiske tykkelse, og gjør det også lettere for filmlaget å løsne fra substratet, noe som endrer filmlagets egenskaper.
– Denne artikkelen er publisert avprodusent av vakuumbeleggsmaskinerGuangdong Zhenhua
Publisert: 04. mai 2024