Vakuumbeschichtungstechnologie ass eng Technologie, bei där Dënnschichtmaterialien ënner engem Vakuum op d'Uewerfläch vu Substratmaterialien ofgesat ginn, déi wäit verbreet an der Elektronik, der Optik, der Verpackung, der Dekoratioun an anere Beräicher benotzt gëtt. Vakuumbeschichtungsausrüstung kann haaptsächlech an déi folgend Typen opgedeelt ginn:
1. Ausrüstung fir d'Beschichtung duerch thermesch Verdampfung: Dëst ass déi traditionellst Vakuumbeschichtungsmethod. Duerch d'Erhëtzung vum Dënnfilmmaterial am Verdampfungsboot gëtt d'Material verdampft an op d'Uewerfläch vum Substratmaterial ofgesat.
2. Sputterbeschichtungsausrüstung: Mat Hëllef vun héichenergeteschen Ionen, déi d'Uewerfläch vum Zilmaterial treffen, ginn d'Zilmaterialatome gesputtert an op de Substratmaterial ofgesat. Magnetronsputtering kann eng méi gläichméisseg a méi staark Haftung vum Film kréien, wat fir d'Masseproduktioun gëeegent ass.
3. Ausrüstung fir d'Oflagerung vun Ionenstrahlen: Ionenstrahlen gi benotzt fir dënn Schichten op de Substrat ofzesetzen. Dës Method kann ganz eenheetlech Schichten kréien an ass gëeegent fir Geleeënheeten mat héije Präzisiounsufuerderungen, awer d'Käschte vun der Ausrüstung si héich.
4. Ausrüstung fir chemesch Dampfoflagerung (CVD): Bildt dënn Schichten op der Uewerfläch vum Substratmaterial duerch eng chemesch Reaktioun. Dës Method kann héichqualitativ Schichten aus verschiddene Spezies hierstellen, awer d'Ausrüstung ass komplex an deier.
5. Molekularstrahlepitaxie (MBE) Ausrüstung: Dëst ass eng Method fir d'Wuesstum vun dënne Schichten op atomarer Ebene ze kontrolléieren a gëtt haaptsächlech fir d'Virbereedung vun ultradënne Schichten a Méischichtstrukture fir Hallefleeder- an Nanotechnologie-Uwendungen benotzt.
6. Plasma-verstäerkt chemesch Vapour-Depositioun (PECVD) Ausrüstung: Dëst ass eng Technik, déi Plasma benotzt fir d'Oflagerung vun dënnen Schichten duerch eng chemesch Reaktioun ze verbesseren, wat eng séier Bildung vun dënnen Schichten bei méi niddregen Temperaturen erméiglecht.
7. Pulséiert Laseroflagerungsapparater (PLD): Dës benotzen héichenergetesch Laserimpulser fir en Zil ze treffen, Material vun der Ziloberfläche ze verdampfen an et op e Substrat ofzesetzen, a si gëeegent fir d'Wuesse vu qualitativ héichwäertegen, komplexen Oxidfilmer.
All dës Apparater hunn hir eege Charakteristiken am Design a Betrib a si fir verschidden industriell Uwendungen a Fuerschungsberäicher gëeegent. Mat der Entwécklung vun der Technologie geet och d'Vakuumbeschichtungstechnologie virun, an et kommen och nei Vakuumbeschichtungsausrüstungen op.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunVakuumbeschichtungsmaschinnFabrikant beschwéiert Guangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 12. Juni 2024