Déi mechanesch Eegeschafte vun der Membranschicht gi vun der Adhäsioun, der Spannung, der Aggregatiounsdichte etc. beaflosst. Aus der Bezéiung tëscht dem Membranschichtmaterial a Prozessfaktoren kann een erkennen, datt wa mir d'mechanesch Stäerkt vun der Membranschicht verbessere wëllen, mir eis op déi folgend Prozessparameter konzentréiere sollten:
(1) Vakuumniveau. De Vakuum op d'Leeschtung vum Film ass ganz offensichtlech. Déi meescht Leeschtungsindikatoren vun der Filmschicht hänken staark vum Vakuumniveau of. Normalerweis, mat der Erhéijung vum Vakuumgrad, klëmmt d'Aggregatiounsdicht vum Film, d'Festegkeet klëmmt, d'Filmstruktur verbessert sech, d'chemesch Zesummesetzung gëtt reng, awer gläichzäiteg klëmmt och d'Spannung.
(2) Oflagerungsquote. D'Verbesserung vun der Oflagerungsquote kann net nëmmen d'Verdampfungsquote verbesseren, dat heescht d'Temperatur vun der Verdampfungsquell erhéijen, mee och d'Fläch vun der Verdampfungsquell erhéijen. D'Benotzung vun der Verdampfungsquell fir d'Temperatur ze erhéijen huet och Nodeeler: d'Spannung an der Membranschicht gëtt ze grouss; de filmbildende Gas zersetzt sech einfach. Dofir ass et heiansdo besser, d'Fläch vun der Verdampfungsquell ze erhéijen, wéi d'Temperatur vun der Verdampfungsquell ze verbesseren.
(3) Substrattemperatur. D'Erhéijung vun der Substrattemperatur ass förderlech fir d'Adsorptioun vun de verbleiwenen Gasmoleküle op der Substratoberfläche auszeschléissen, wat d'Bindungskraaft tëscht de ofgesate Moleküle vum Substrat an d'Erhéijung vun der Bindungskraaft tëscht de Moleküle fördert: gläichzäiteg gëtt d'Ëmwandlung vun der physescher Adsorptioun an d'chemesch Adsorptioun gefördert, d'Interaktioun tëscht de Moleküle verbessert, sou datt d'Membranschichtstruktur dicht ass. Zum Beispill kann d'Erhëtzung vum Mg-Membran op 250 ~ 300 ℃ vum Substrat d'intern Spannung reduzéieren, d'Aggregatiounsdicht verbesseren an d'Häert vun der Membranschicht erhéijen: D'Erhëtzung vum Substrat op 120 ~ 150 ℃ vun enger virbereeter Zr03-Si02-Multilagmembran erhéicht seng mechanesch Stäerkt däitlech, awer eng ze héich Substrattemperatur féiert zu enger Zersetzung vun der Membranschicht.
(4) Ionenbombardement. Ionenbombardement huet en Effekt op d'Bildung vun héich kohäsiven Uewerflächen, d'Uewerflächenrauheet, d'Oxidatioun an d'Aggregatiounsdicht. D'Bombardement virum Beschichtung kann d'Uewerfläch botzen an d'Adhäsioun erhéijen; d'Bombardement nom Beschichtung kann d'Aggregatiounsdicht vun der Filmschicht etc. verbesseren, wouduerch d'mechanesch Stäerkt an d'Häert eropgoen.
(5) Substratreinigung. D'Method vun der Substratreinigung ass net gëeegent oder net propper, well Ongereinheeten oder Botzmëttel am Substrat bleiwen, wat zu neier Verschmotzung féiert. Verschidde Kohäsiouns- an Haftungsbedingungen an der Beschichtung hunn doduerch ënnerschiddlech Struktur- an Décktseigenschaften vun der éischter Schicht. Dëst beaflosst awer och d'Folieschicht, déi sech liicht vum Substrat lassléisst, wouduerch d'Charakteristike vun der Folieschicht geännert ginn.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 04. Mee 2024