D'CVD-Beschichtungstechnologie huet déi folgend Charakteristiken:
1. De Prozessbetrib vun der CVD-Ausrüstung ass relativ einfach a flexibel, an et kann eenzel oder Kompositfolien a Legierungsfolien mat verschiddene Proportiounen hierstellen;
2. CVD-Beschichtung huet e breet Spektrum vun Uwendungen a kann benotzt gi fir verschidde Metall- oder Metallfilmbeschichtungen ze preparéieren;
3. Héich Produktiounseffizienz wéinst Oflagerungsraten, déi vun e puer Mikrometer bis Honnerte vu Mikrometer pro Minutt reechen;
4. Am Verglach mat der PVD-Method huet CVD eng besser Diffraktiounsleistung a ass ganz gëeegent fir d'Beschichtung vu Substrater mat komplexe Formen, wéi Nuten, beschichtete Lächer a souguer Blannlächerstrukturen. D'Beschichtung kann zu engem Film mat gudder Kompaktheet platéiert ginn. Wéinst der héijer Temperatur beim Filmbildungsprozess an der staarker Haftung op der Grenzfläche vum Filmsubstrat ass d'Filmieschicht ganz fest.
5. De Schued, deen duerch Stralung verursaacht gëtt, ass relativ niddreg a kann mat MOS-Integratiounsschaltkreesser integréiert ginn.
——Dësen Artikel gouf vu Guangdong Zhenhua publizéiert, engemHiersteller vu Vakuumbeschichtungsmaschinnen
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 29. Mäerz 2023