Proprietates mechanicae membranae afficiuntur ab adhaesione, tensione, densitate aggregationis, et cetera. Ex relatione inter materiam membranae et factores processus, videri potest, si firmitatem mechanicam membranae emendare velimus, nos in sequentibus parametris processus intendere debere:
(1) Gradus vacui. Influentia vacui in effectu pelliculae perspicua est. Pleraque indicia effectuum pelliculae valde pendent ex gradu vacui. Solet fieri ut gradus vacui crescat, densitas aggregationis pelliculae crescit, firmitas crescit, structura pelliculae emendatur, compositio chemica pura fit, sed simul etiam tensio crescit.
(2) Celeritas depositionis. Augmentatio celeritatis depositionis non solum ad augendam celeritatem evaporationis adhiberi potest, id est, ad augendam temperaturam fontis evaporationis, sed etiam ad augendam aream fontis evaporationis adhiberi potest, sed usus fontis evaporationis ad augendam temperaturam etiam vitia habet: nimis magna est tensio in membrana; gas membranam formans facile dissolvitur. Itaque interdum aream fontis evaporationis augere magis congruit quam temperaturam fontis evaporationis augere.
(3) Temperatura substrati. Augmentum temperaturae substrati adsorptioni in superficie substrati moleculas gasis residuas excludit, substratum auget et vim ligationis inter moleculas depositas auget: simul conversionem adsorptionis physicae in adsorptionem chemicam promovet, interactionem inter moleculas amplificat, ita ut structura membranae firma sit. Exempli gratia, si Mg membrana ad 250 ~ 300 ℃ calefaciatur, tensionem internam minuere, densitatem aggregationis augere, et duritiam membranae augere potest: substratum ad 120 ~ 150 ℃ calefaciendo, membrana multistrata ZrO3-SiO2 paratur, eius robur mechanicum multum augetur, sed temperatura substrati nimis alta deteriorationem membranae efficit.
(4) Bombardatio ionica. Bombardatio ionica effectum habet in formationem superficierum valde cohaesivarum, asperitatem superficiei, oxidationem et densitatem aggregationis. Bombardatio ante obductionem superficiem purgare et adhaesionem augere potest; bombardatio post obductionem densitatem aggregationis strati pelliculae, etc., emendare potest, ita robur mechanicum et duritiam augens.
(5) Purgatio substrati. Si modus purgationis substrati non aptus est aut non purus est, impuritates residuae vel purgatio in substrato manent, novam pollutionem efficiunt, et in obductione condiciones cohaesionis et adhaesionis variae sunt, quae proprietates structurales et crassitudinem opticam primi strati afficiunt, sed etiam stratum pelliculae facile a substrato separari facit, ita proprietates strati pelliculae mutando.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: IV Maii, MMXXIV