1. Technologia depositionis fasciculo ionico adiuvatae adhaesionem validam inter membranam et substratum distinguit, stratum membranae valde robustum. Experimenta ostendunt: adhaesionem depositionis fasciculo ionico adiuvatae adhaesionem depositionis vaporis thermalis pluries vel centies augeri, praecipue ob effectum purgationis bombardamenti ionum in superficie, ita ut interfacies basis membranae structuram interfacialem gradientem, sive stratum transitionis hybridum, formet, atque tensionem membranae minuit.
2. Depositio fasciculo ionico adiuvata proprietates mechanicas pelliculae emendare et vitam lassitudinis extendere potest, et ad oxyda, carbura, BN cubicum, TiB2, et tunicas adamantinas praeparandas aptissima est. Exempli gratia, in chalybe calori resistente 1Cr18Ni9Ti, technologia depositionis fasciculo ionico adiuvatae ad pelliculam Si3N4 200nm crescendam adhibetur, non solum apparitionem fissurarum lassitudinis in superficie materiae inhibere potest, sed etiam celeritatem diffusionis fissurarum lassitudinis significanter reducere, vitam eius extendere utile munus agit.
3. Depositio fasciculo ionico adiuvata naturam tensionis pelliculae mutare potest eiusque structuram crystallinam mutari. Exempli gratia, praeparatione pelliculae Cr cum bombardamento Xe+ vel Ar+ 11.5keV superficiei substrati, inventum est adaptationem temperaturae substrati, energiae ionicae bombardamenti, ionum et atomorum ad proportionem parametrorum attingendam, tensionem a tensione tensile ad tensionem compressivam efficere posse, structuram crystallinam pelliculae etiam mutationes producere. Sub certa proportione adventus ionum ad atomum, depositio fasciculo ionico adiuvata meliorem orientationem selectivam habet quam stratum membranae depositum per depositionem vaporis thermalis.
4. Depositio fasciculo ionico adiuvata resistentiam corrosionis et resistentiam oxidationis membranae augere potest. Propter densitatem depositionis strati pelliculae fasciculo ionico adiuvatae, structura interfaciei basis pelliculae emendata est vel formatio status amorphi propter evanescentiam limitum granorum inter particulas, quae resistentiae corrosionis materiae auctae et oxidationi temperaturae altae resistit.
5. Depositio fasciculo ionico adiuvata proprietates electromagneticas pelliculae mutare et efficaciam pellicularum tenuium opticarum emendare potest.
6. Depositio ionico adiuvata permittit accuratam et independentem adaptationem parametrorum ad depositionem atomicam et implantationem ionicam pertinentium, et generationem successivam obductionum paucorum micrometrorum cum compositione constanti ad energias bombardamenti humilis permittit, ita ut variae pelliculae tenues ad temperaturam ambientem crescere possint, vitatis effectibus adversis in materias vel partes praecisionis qui tractatione earum ad temperaturas elevatas causari possunt.
–Hic articulus editus est abFabricator machinae ad obducendum vacuumGuangdong Zhenhua
Tempus publicationis: XXIV Ianuarii MMXXIV