ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳ ವರ್ಗೀಕರಣಗಳು ಯಾವುವು?

ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ನಿರ್ವಾತ ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ತಲಾಧಾರ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ, ಇದನ್ನು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್, ದೃಗ್ವಿಜ್ಞಾನ, ಪ್ಯಾಕೇಜಿಂಗ್, ಅಲಂಕಾರ ಮತ್ತು ಇತರ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಈ ಕೆಳಗಿನ ಪ್ರಕಾರಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು:

1. ಉಷ್ಣ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣ: ಇದು ಅತ್ಯಂತ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ, ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ದೋಣಿಯಲ್ಲಿರುವ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವನ್ನು ಬಿಸಿ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ, ವಸ್ತುವನ್ನು ಆವಿಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.
2. ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳು: ಗುರಿ ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಹೊಡೆಯಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಬಳಸಿ, ಗುರಿ ವಸ್ತುವಿನ ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ಸ್ಪಟ್ಟರ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ವಸ್ತುವಿಗೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ. ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ರಾನ್ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಸಾಮೂಹಿಕ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಹೆಚ್ಚು ಏಕರೂಪದ ಮತ್ತು ಬಲವಾದ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಸಾಧ್ಯವಾಗುತ್ತದೆ.
3. ಅಯಾನ್ ಕಿರಣ ಶೇಖರಣಾ ಉಪಕರಣಗಳು: ಅಯಾನ್ ಕಿರಣಗಳನ್ನು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ತುಂಬಾ ಏಕರೂಪದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿಖರತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸಂದರ್ಭಗಳಲ್ಲಿ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ, ಆದರೆ ಸಲಕರಣೆಗಳ ವೆಚ್ಚ ಹೆಚ್ಚು.
4. ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (CVD) ಉಪಕರಣಗಳು: ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ತಲಾಧಾರ ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ವಿಧಾನವು ಉತ್ತಮ-ಗುಣಮಟ್ಟದ, ಬಹು-ಜಾತಿ ಪದರಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು, ಆದರೆ ಉಪಕರಣವು ಸಂಕೀರ್ಣ ಮತ್ತು ದುಬಾರಿಯಾಗಿದೆ.
5. ಆಣ್ವಿಕ ಕಿರಣ ಎಪಿಟಾಕ್ಸಿ (MBE) ಉಪಕರಣ: ಇದು ಪರಮಾಣು ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳ ಬೆಳವಣಿಗೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವ ಒಂದು ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಅರೆವಾಹಕ ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊತಂತ್ರಜ್ಞಾನ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗಾಗಿ ಅತಿ-ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳು ಮತ್ತು ಬಹುಪದರದ ರಚನೆಗಳನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
6. ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ ವರ್ಧಿತ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ (PECVD) ಉಪಕರಣ: ಇದು ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಪ್ಲಾಸ್ಮಾವನ್ನು ಬಳಸುವ ತಂತ್ರವಾಗಿದ್ದು, ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ತೆಳುವಾದ ಪದರಗಳ ತ್ವರಿತ ರಚನೆಗೆ ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ.
7. ಪಲ್ಸ್ಡ್ ಲೇಸರ್ ಡಿಪಾಸಿಷನ್ (PLD) ಸಾಧನಗಳು: ಇವು ಗುರಿಯನ್ನು ಹೊಡೆಯಲು, ಗುರಿ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ವಸ್ತುವನ್ನು ಆವಿಯಾಗಿಸಿ ಮತ್ತು ಅದನ್ನು ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಲೇಸರ್ ದ್ವಿದಳ ಧಾನ್ಯಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ, ಸಂಕೀರ್ಣ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಬೆಳೆಯಲು ಸೂಕ್ತವಾಗಿವೆ.
ಈ ಪ್ರತಿಯೊಂದು ಸಾಧನವು ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯಲ್ಲಿ ತನ್ನದೇ ಆದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ವಿಭಿನ್ನ ಕೈಗಾರಿಕಾ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳು ಮತ್ತು ಸಂಶೋಧನಾ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯೊಂದಿಗೆ, ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವೂ ಮುಂದುವರಿಯುತ್ತಿದೆ ಮತ್ತು ಹೊಸ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಉಪಕರಣಗಳು ಸಹ ಹೊರಹೊಮ್ಮುತ್ತಿವೆ.

–ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಪ್ರಕಟಿಸಿದವರುನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರತಯಾರಕ ಗುವಾಂಗ್ಡಾಂಗ್ ಝೆನ್ಹುವಾ