CVD жабу технологиясы келесі сипаттамаларға ие:
1. CVD жабдығының технологиялық жұмысы салыстырмалы түрде қарапайым және икемді болып табылады және ол бір немесе композициялық пленкалар мен әртүрлі пропорциядағы легирленген пленкаларды дайындай алады;
2. CVD жабыны кең қолдану аясына ие және әртүрлі металл немесе металл пленка жабындарын дайындау үшін пайдаланылуы мүмкін;
3. Минутына бірнеше микроннан жүздеген микронға дейінгі шөгу жылдамдығына байланысты жоғары өндіріс тиімділігі;
4. PVD әдісімен салыстырғанда, CVD жақсы дифракциялық өнімділікке ие және ойықтар, қапталған тесіктер және тіпті соқыр тесік құрылымдары сияқты күрделі пішінді субстраттарды жабу үшін өте қолайлы. Қаптаманы жақсы жинақылығы бар пленкаға салуға болады. Пленканы қалыптастыру процесінде жоғары температураға және пленка субстратының интерфейсіндегі күшті адгезияға байланысты пленка қабаты өте берік.
5. Сәулеленуден болатын зақым салыстырмалы түрде төмен және MOS интегралды схема процестерімен біріктірілуі мүмкін.
——Бұл мақаланы Гуандун Чжэнхуа, авакуумды қаптау машинасының өндірушісі
Хабарлама уақыты: 29 наурыз 2023 ж