1. Ion Beam dibantu teknologi deposition ditondoi dening adhesion kuwat antarane membran lan landasan, lapisan membran banget kuwat. Eksperimen nuduhake yen: ion Beam-dibantu deposition saka adhesion saka adhesion saka deposition uap termal tambah kaping pirang-pirang kanggo atusan kaping, alesan utamané amarga bombardment ion ing lumahing efek reresik, supaya antarmuka basa membran kanggo mbentuk struktur interfacial gradien, utawa lapisan transisi Sato, uga kanggo ngurangi kaku membran.
2. Ion Beam dibantu deposition bisa nambah situs mechanical saka film, ngluwihi gesang lemes, cocok banget kanggo preparation saka oksida, carbide, BN kubik, TiB2, lan kemul inten-kaya. Contone, ing 1Cr18Ni9Ti baja tahan panas ing nggunakake teknologi deposisi ion-Beam-dibantu kanggo tuwuh film 200nm Si3N4, ora mung bisa nyandhet emergence saka retak lemes ing lumahing materi, nanging uga Ngartekno nyuda tingkat panyebaran retak lemes, kanggo ngluwihi urip nduweni peran apik.
3. Ion Beam dibantu deposition bisa ngganti alam kaku film lan owah-owahan struktur kristal sawijining. Contone, preparation saka film Cr karo 11.5keV Xe + utawa Ar + bombardment saka lumahing landasan, ketemu sing imbuhan saka suhu landasan, energi ion bombardment, ion lan atom kanggo nggayuh rasio paramèter, bisa nggawe kaku saka kaku tensile kanggo kaku compressive, struktur kristal film uga bakal gawé owah-owahan. Ing rasio kedatangan ion-kanggo-atom tartamtu, deposisi sing dibantu sinar ion nduweni orientasi selektif sing luwih apik tinimbang lapisan membran sing disimpen dening deposisi uap termal.
4.Ion Beam dibantu deposition bisa nambah resistance karat lan resistance oksidasi saka membran. Amarga Kapadhetan saka ion Beam-dibantu Deposition saka lapisan film, ing film dandan struktur antarmuka basa utawa tatanan saka negara amorf disebabake ilang saka wates gandum antarane partikel, kang kondusif kanggo nambah saka resistance karat saka materi lan nolak oksidasi saka suhu dhuwur.
5. Ion Beam dibantu deposition bisa ngganti sifat elektromagnetik saka film lan nambah kinerja film tipis optik.
6. Ion-dibantu imbuhan ngidini imbuhan pas lan sawijining saka paramèter related kanggo deposition atom lan implantasi ion, lan ngidini kanggo generasi sukses kemul sawetara micrometers karo komposisi konsisten ing energi bombardment kurang, supaya macem-macem film tipis bisa thukul ing suhu kamar, Nyingkiri efek salabetipun ing bahan utawa bagean tliti sing bisa disebabake dening elevated suhu.
– Artikel iki dirilis deningpabrikan mesin lapisan vakumGuangdong Zhenhua
Wektu kirim: Jan-24-2024