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アーク電子流の特徴と発生方法

記事ソース:振華真空
読み取り:10
公開日:23-05-31

1.アーク光の電子の流れの特徴

アーク放電によって生成されるアーク プラズマ内の電子流、イオン流、および高エネルギー中性原子の密度は、グロー放電の密度よりもはるかに高くなります。コーティング空間には、より多くのガスイオンと金属イオンがイオン化され、励起された高エネルギー原子、およびさまざまな活性基が存在し、コーティングプロセスの加熱、洗浄、およびコーティング段階で重要な役割を果たします。アーク電子流の作用形態はイオンビームとは異なり、すべてが「ビーム」に収束するのではなく、発散した状態が多いため、アーク電子流と呼ばれます。アーク電子は陽極に向かって流れるため、アーク電子の流れはアーク電源の正極が接続されている場所であればどこにでも向けられ、陽極はワークピース、補助陽極、るつぼなどになります。

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2.アーク電子流の発生方法

(1) ガス源はアーク電子流を生成します。ホローカソード アーク放電と熱線アーク放電のアーク電流は約 200 A に達し、アーク電圧は 50 ~ 70 V です。

(2) 固体ソースはアーク電子流を生成します。陰極アーク源には、小型アーク源、円筒形アーク源、長方形平面大型アーク源などが含まれます。各陰極アーク源放電のアーク電流は 80 ~ 200A、アーク電圧は18-25V。

2種類のアーク放電プラズマ中の高密度で低エネルギーのアーク電子流は、ガスおよび金属膜原子との激しい衝突電離を生成し、より多くのガスイオン、金属イオン、およびさまざまな高エネルギー活性原子および基を取得し、それによって改善されます。膜層イオンの全体的な活動。

–この記事は広東振華社によって発表されました。真空成膜機メーカー


投稿日時: 2023 年 5 月 31 日